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Im EUV-Spektralbereich reflektierender Spiegel

Mirror for the EUV spectral region used in X-ray techniques comprises a layer arrangement having a number of partial layer systems applied on a substrate.
 
: Feigl, T.; Kaiser, N.; Kuhlmann, T.; Yulin, S.

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DE 2001-10155711 A: 20011109
DE 2001-10155711 A: 20011109
DE 10155711 B4: 20060223
G02B0005
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IOF ()

Abstract
Es wird ein Multilayer-Spiegel mit einer auf ein Substrat aufgebrachten Schichtanordnung, die eine Abfolge von Einzelschichten aufweist, vorgeschlagen. Die Schichtanordnung umfasst eine Mehrzahl von Schichtteilsystemen, die jeweils eine periodische Abfolge von mindestens zwei eine Periode bildenden Einzelschichten unterschiedlicher Materialien aufweisen. Die Anzahl der Perioden und die Dicke der Perioden der einzelnen Teilsysteme nimmt von dem Substrat zur Oberflaeche hin ab.

 

DE 10155711 A UPAB: 20030710 NOVELTY - Mirror for the EUV spectral region comprises a layer arrangement having a number of partial layer systems (1, 2, 3) applied on a substrate (7). The partial layer systems have a sequence of individual layers of different materials forming periods (4). The number of periods and the thickness of the periods of the partial systems decreases from the substrate to the surface (8). DETAILED DESCRIPTION - Preferred Features: Three partial systems with periods of two individual layers of different materials are arranged on the substrate. The number of periods of each partial system is selected so that all partial systems have the same reflectivity of the mirror. The individual layers are made from molybdenum and silicon. USE - Used in X-ray techniques. ADVANTAGE - The mirror has high reflectivity in the EUV spectral region.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-44138.html