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Title
Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung hochenergetischer Ionenstrahlen und/oder kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung
Date Issued
2002
Author(s)
Vogel, D.
Vogel, N.
Kaempfe, B.
Patent No
2000-10015415
Abstract
(A1) Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur Erzeugung gerichteter hochenergetischer Ionenstrahlen und/oder kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung. Bei dem Verfahren wird ein kurzer intensiver Laserpuls auf einen Brennpunkt in ein Dielektrikum fokussiert, der sich in einen geringen Abstand vor einem Target befindet. Unmittelbar vor dem Eintreffen des kurzen Laserpulses werden gegebenenfalls eine Vorionisation sowie zumindest eine Stosswelle im Dielektrikum erzeugt, die sich vom Target in Richtung des Brennpunktes ausbreitet. Der Abstand zwischen dem Brennpunkt und dem Target wird so eingestellt, dass die Stosswelle den Brennpunkt annaehernd zeitgleich mit dem Laserhauptpuls erreicht. Mit dem Verfahren und der zugehoerigen Vorrichtung lassen sich auf einfache und kostenguenstige Weise gerichtete hochenergetische Ionenstrahlen mit Energien und Teilchendichten erzeugen, wie sie bisher nur in technischen Grossanlagen realisierbar sind.
DE 10015415 A UPAB: 20020424 NOVELTY - The electron beam ionised source is generated using a pulsed Nd:YAG laser that provides an output (1) to a focussing system. This has the laser focussd (2) onto a dielectric (5) in front of a metal target (4). The distance d between the focal point (3) and the target (4) is adjusted such that the shock wave is synchronised with the laser pulse. USE - Electron beam processes ADVANTAGE - Cost effective high energy beam generation
Language
de
Patenprio
DE 2000-10015415 A: 20000328