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Solarzelle mit einer amorphen Siliziumschicht und Verfahren zum Herstellen solch einer photovoltaischen Solarzelle

 
: Reichel, Christian; Feldmann, Frank; Müller, Ralph; Hermle, Martin

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Frontpage ()

DE 102014218948 A1: 20140919
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer ISE ()

Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer photovoltaischen Solarzelle, folgende Verfahrensschritte umfassend: A Aufbringen einer Tunnelschicht mittelbar oder unmittelbar auf eine Rückseite eines Siliziumsubstrates; B Aufbringen einer Siliziumschicht mittelbar oder unmittelbar auf die Tunnelschicht, welche Siliziumschicht mit einem ersten Dotierstoff eines ersten Dotierungstyps dotiert ist; C Erzeugen einer Mehrzahl alternierend angeordneter Dotierbereiche mittels Implantation eines zweiten Dotierstoffs eines zweiten Dotierungstyps, welcher zweite Dotierungstyp zu dem ersten Dotierungstyp entgegengesetzt ist; Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass in Verfahrensschritt B die Siliziumschicht als amorphe Siliziumschicht abgeschieden wird und in Verfahrensschritt C die Implantation des zweiten Dotierstoffes in die amorphe Siliziumschicht erfolgt.; Die Erfindung betrifft weiterhin eine photovoltaische Solarzelle.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-389426.html