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Vorrichtung zum Bedampfen eines Substrates innerhalb einer Vakuumammer

 
: Scheffel, Bert; Metzner, Christoph; Morgner, Henry; Händel, Frank; Finkenwirth, Bernd

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Frontpage ()

DE 102014110835 : 20140731
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer FEP ()

Abstract
DE102014110835A1 [DE] Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Bedampfen eines Substrates (3) innerhalb einer Vakuumkammer, umfassend mindestens ein Gefaess (1) zur Aufnahme eines Materials (2), welches im Gefaess (1) erhitzt und verdampft wird und eine jedem Gefaess (1) zugeordnete separate Einrichtung (5) zum Erzeugen eines Plasmas, welches den sich vom Gefaess (1) zum Substrat (3) hin ausbreitenden Materialdampf durchdringt. Dabei umfasst die Einrichtung (5) zum Erzeugen des Plasmas genau eine Hohlkathode (6), mindestens eine ringfoermige Anode (7), eine zwischen Hohlkathode (6) und ringfoermige Anode (7) geschaltete Stromversorgungseinrichtung (8) zum Zuenden und Aufrechterhalten einer Hohlkathodenbogenentladung sowie mindestens eine erste ringfoermige elektromagnetische Spule (10) und eine zweite ringfoermige elektromagnetische Spule (11).

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-379015.html