Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Integration of high dielectric Ba0.5Sr0.5TiO3 films into amorphous TaSiN barrier layer structures

 
: Wenger, C.; Albert, M.; Adolphi, B.; Heuer, H.; Bartha, J.W.; Schlenkrich, F.

:

Materials Science in Semiconductor Processing 5 (2002), 2-3, pp.233-236
ISSN: 1369-8001
English
Journal Article
Fraunhofer IKTS ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-37244.html