Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Ellipsometric study of polycrystalline silicon films prepared by low-pressure chemical vapor deposition

 

:

Journal of applied physics 87 (2000), No.4, pp.1734-1742
ISSN: 0021-8979
ISSN: 1089-7550
English
Journal Article
Fraunhofer IISB ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-36846.html