Fraunhofer-Gesellschaft

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ALD-basierte, monolithisch integrierte 3D-Nanostrukturen

ALD-based, monolithic integrated 3D-nanostructures
 
: Jupe, Andreas; Goehlich, Andreas; Feizi, Khadijeh; Vogt, Holger

Saile, Volker (Chairman) ; VDE/VDI-Gesellschaft Mikroelektronik, Mikro- und Feinwerktechnik -GMM-:
MEMS, Mikroelemente, Systeme. Proceedings CD-ROM : MikroSystemTechnik Kongress 2015, 26. - 28. Oktober 2015 in Karlsruhe
Berlin: VDE-Verlag, 2015
ISBN: 978-3-8007-4100-7
pp.405-408
MikroSystemTechnik Kongress <6, 2015, Karlsruhe>
German, English
Conference Paper
Fraunhofer IMS ()
Nanostruktur; ALD; Nano-Rasen; MEA

Abstract
Das Fraunhofer IMS hat auf Basis von DRIE und ALD einen Post-CMOS-Prozess entwickelt, der zur Herstellung von 3d-Strukturen genutzt werden kann. Als Beispiel dieser Technologie werden Multi-Elektroden-Arrays (MEA) mit einem Ruthenium-Nano-Rasen für biomedizinische Anwendungen vorgestellt.

 

The Fraunhofer IMS has developed a post-CMOS process based on DRIE and ALD, which can be used for the production of 3D nanostructures. As an example of this technology multi-electrode arrays (MEA) with a ruthenium-nano-lawn are presented for biomedical applications.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-364363.html