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2005
Conference Paper
Titel
Innovative stationary sputter technologies for precision optical and antireflection coatings
Alternative
Innovative stationäre Sputtertechnologien für Präzisionsoptiken und Antireflexionsbeschichtungen
Abstract
Mit Magnetron-Sputtern können dichte, absorptionsfreie, klimatisch stabile Filme mit guter Integration in den Produktionsprozess optischer Komponenten hergestellt werden. Es wurde das Doppelring-Magnetron DRM 400 der Fraunhofer FEP verwendet, das gleichförmige Beschichtungen bis zu einem Durchmesser von 200 mm erlaubt. In einer Schemazeichnung ist das Prinzip des Gerätes dargestellt. Durch Einstellung der reaktiven Gase O2/N2 kann der Brechungsindex frei zwischen dem Oxid und Nitrid eingestellt werden. In einer Tabelle sind die Abscheidungsraten, Rauigkeiten Brechungsindices bei 193 nm und 500 nm sowie die Extinktionskoeffizienten bei 193 nm und 500 nm von SiO2, Si3N4, Al2O3 und Ta2O5 zusammengestellt. Die Anwendung der Beschichtung für verschiedene optische Bauelemente, wie Filter, wird beschrieben. Die Hauptvorteile der Methode sind die niedrigen Investitionskosten und die hohe Produktivität, da der Prozess beim Wechsel der Prozessgase nicht unterbrochen werden muss. Für höhere Ansprüche an Rauigkeit und Absorption im sichtbaren Bereich sind Multischichten aus SiO2/Ta2O5 geeignet. Für Wellenlängen herunter bis zu 193 nm eignen sich SiO2 und Al2O3.
Author(s)