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Verfahren und Vorrichtung zum Einbringen von Gasen bei Vakuumbeschichtungsprozessen

Method for supplying gases to vacuum coating apparatus comprises gas inlet fitted with valve operated by control unit containing pulse width modulator transmitting commands to open and close valve with predetermined frequency.
 
: Krause, U.; Hartung, U.; Kopte, T.; Krause, I.

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DE 102004006530 A: 20040210
DE 2004-102004006530 A: 20040210
DE 102004006530 A1: 20050901
C23C0014
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Einbringen von Gasen bei Vakuumbeschichtungsprozessen, umfassend einen Gaseinlass (7) in einen Rezipienten (1), ein an den Gaseinlass (7) angeschlossenes Ventil (8), eine Einrichtung (9) zum Steuern des Gasstromes durch das Ventil (8) in den Rezipienten (1), wobei die Einrichtung (9) zum Steuern des Gasstromes durch das Ventil (8) ein Mittel (10) umfasst, mit welchem Steuerbefehle zum Oeffnen bzw. Schliessen des Ventils (8) periodisch abwechselnd mit einer bestimmten Wechselfrequenz erteilbar sind, wobei der Gasstrom durch das Ventil (8) in Abhaengigkeit von der Zeitspanne der einzelnen Steuerbefehle zum Oeffnen oder/und Schliessen des Ventils einstellbar ist.

 

DE1004006530 A UPAB: 20050920 NOVELTY - Supplying gases to a vacuum coating apparatus comprises a gas inlet (7) fitted with a valve (8) operated by a control unit (9). This contains a pulse width modulator (10) which transmits commands to alternately open and close the valve with a predetermined frequency. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is included for the apparatus. USE - Supplying gases to a vacuum coating apparatus. ADVANTAGE - Hysteresis and drift of flow sped with time are avoided.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-35513.html