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Title
Verfahren und Vorrichtung zum Intensivieren einer gepulsten Magnetronentladung
Date Issued
2005
Author(s)
Fietzke, F.
Klostermann, H.
Goedicke, K.
Kirchhoff, V.
Wuensche, T.
Boecher, B.
Patent No
102004015230
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Betreiben einer mittelfrequent gepulsten Magnetron-Entladung in einer Vakuumkammer (1), umfassend mindestens eine erste Elektrode (5a) und mindestens eine zweite Elektrode (5b), wobei die erste Elektrode (5a) in einem Magnetfeld angeordnet ist und mittels einer ersten Umschalteinrichtung (8) zeitweise als Katode der Magnetron-Entladung schaltbar ist, wobei mitttels einer zweiten Umschalteinrichtung (16) die erste Elektrode (5a) in den Phasen, in denen die erste Elektrode (5a) nicht als Katode der Magnetron-Entladung geschaltet ist, zumindest zeitweise als Anode in den Stromkreis einer zusaetzlichen Elektronenquelle (9) schaltbar ist.
DE1004015230 A UPAB: 20051125 NOVELTY - Intensifying a pulsed magnetron discharge in a vacuum chamber (3) comprises deflecting an additional electron stream from an additional electron source (9) to a first electrode (1) for a part of each time period, in which the first electrode is operated non cathodically, so that ions are formed in the region of the first electrode. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a device for operating a pulsed magnetron discharge in a vacuum chamber. Preferred Features: The first electrode alternates as a cathode or anode. A hollow cathode is used as the additional electron source. A thin layer is formed on a substrate using magnetron sputtering. USE - For intensifying a pulsed magnetron discharge in a vacuum chamber. ADVANTAGE - Magnetron discharge are effectively discharged.
Language
de
Patenprio
DE 102004015230 A: 20040329