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Verfahren zum Abscheiden von Karbidschichten hochschmelzender Metalle

Depositing carbide layers of a high melting point metal on an object comprises producing a carbon-containing atmosphere in a vacuum chamber by introducing a reactive gas, vaporizing the metal and depositing using a plasma.
 
: Heinss, J.; Scheffel, B.; Metzner, C.; Kirchhoff, V.; Tenbusch, M.

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DE 102004019169 A: 20040420
DE 2004-102004019169 A: 20040420
WO 2005-EP1851 A: 20050223
DE 102004019169 A1: 20051117
C23C0014
H01J0037
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abscheiden von Schichten aus Karbiden mindestens eines hochschmelzenden Metalls (3) auf mindestens einem Objekt (8) mittels Hochrate-Elektronenstrahlbedampfung in einer Vakuumkammer (1), wobei in der Vakuumkammer (1) durch Einlass eines Reaktivgases eine kohlenstoffhaltige Atmosphaere erzeugt wird; das hochschmelzende Metall (3) mittels eines Elektronenstrahls (5) verdampft wird; das Abscheiden von einem Plasma unterstuetzt wird, wobei das Plasma mittels diffuser Bogenentladung auf der Oberflaeche des zu verdampfenden hochschmelzenden Metalls (3) erzeugt wird; die Beschichtungsrate mindestens 20 nm/s betraegt und die Objekttemperatur waehrend des Abscheidens zwischen 50°C und 500°C gehalten wird.

 

DE1004019169 A UPAB: 20051222 NOVELTY - Depositing carbide layers of a high melting point metal (3) on an object comprises producing a carbon-containing atmosphere in a vacuum chamber (1) by introducing a reactive gas, vaporizing the metal using an electron beam (5) and depositing using a plasma which is produced on the surface of the metal to be vaporized using a coating rate of at least 20 nm/s and an object temperature of 50-500 deg. C. USE - For components requiring high corrosion protection. ADVANTAGE - The carbide layers have high strength and corrosion protection.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-35434.html