Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Alignment accuracy in a MA/BA8 GEN3 using substrate conformal imprint lithography (SCIL)

 
: Fader, R.; Schömbs, U.; Verschuuren, M.

:
Fulltext (HTML; )

Süss Report (2013), No.1, pp.24-27
English
Journal Article, Electronic Publication
Fraunhofer IISB ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-341466.html