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Verfahren zur Spektrometrie und Spektrometer

 
: Ellrich, Frank; Molter, Daniel; Fredebeul, Christoph; Platte, Frank; Nalpantidis, Konstantinos

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Frontpage ()

DE 102014100662 B3: 20140121
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IPM ()

Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Spektrometrie an einer chemischen Substanz in einer mehrlagigen Struktur mit den Schritten Bestrahlen der mehrlagigen Struktur mit elektromagnetischer Strahlung mit einer Mehrzahl von Frequenzen oder einem Frequenzband aus einem Frequenzbereich von 1 GHz bis 30 THz unter einem ersten Einfallswinkel, frequenzaufgelöstes Erfassen eines Masses für die Intensität der unter dem ersten Einfallswinkel auf die mehrlagige Struktur geleiteten und durch die mehrlagige Struktur transmittierten oder von der mehrlagigen Struktur reflektierten elektromagnetischen Strahlung als ein erstes Spektrum.; Um ein Verfahren zur Spektrometrie an einer chemischen Substanz in einer mehrlagigen Struktur, aber auch dafür geeignete Spektrometer bereitzustellen, welche die Eindeutigkeit der Identifizierung einer chemischen Substanz in einer mehrlagigen Struktur anhand ihres Spektrums in dem genannten Frequenzbereich oder einem Ausschnitt daraus verbessern, wird erfindungsgemäss vorgeschlagen, dass das Verfahren weiterhin die Schritte ausweist Bestrahlen der mehrlagigen Struktur mit elektromagnetischer Strahlung mit der Mehrzahl von Frequenzen oder dem Frequenzband aus einem Frequenzbereich von 1 GHz bis 30 THz unter einem zweiten Einfallswinkel, wobei der erste und der zweite Einfallswinkel voneinander verschieden sind und wobei mindestens der erste oder der zweite Einfallswinkel von 0 DEG verschieden sind,; frequenzaufgelöstes Erfassen eines Masses für die Intensität der unter dem zweiten Einfallswinkel auf die mehrlagige Struktur geleiteten und durch die mehrlagige Struktur transmittierten oder von der mehrlagigen Struktur reflektierten elektromagnetischen Strahlung als ein zweites Spektrum und Berechnen eines korrigierten Spektrums mindestens aus dem ersten Spektrum und dem zweiten Spektrum, so dass in dem korrigierten Spektrum diejenigen Merkmale des ersten Spektrums und des zweiten Spektrums, welche von dem Einfallswinkel abhängen, minimiert sind.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-337450.html