Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Lithographieverfahren

 
: Notthoff, C.

Strategie und Technik 47 (2005), No.11, pp.53
ISSN: 1860-5311
German
Journal Article
Fraunhofer INT ()
Lithographie; lithography; Elektronenstrahl-Projektion; electron projection lithography; Elektronenstrahlschreibe; direct-write electron-beam; Ionenstrahl-Projektion; ion beam projection lithography; Ionenstrahlschreibe; ion beam direct-write deposition; Atomstrahl-Lithographie; atom lithography; soft lithography

Abstract
Lithographieverfahren werden vor allem in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von Sub-Mikrostrukturen auf einem geeigneten Trägermaterial eingesetzt. Zu den parallelen Strukturierungsmethoden gehören Optische Lithographie, Elektronenstrahl- und Ionenstrahl-Projektion, Atomlithographie sowie Röntgenlithographie. Serielle Verfahren sind das Ionenstrahl- und das Elektronenstrahlschreiben sowie Rastersonden-Lithographie. Unter dem Begriff Soft Lithographie werden solche Strukturierungsverfahren zusammengefasst, die zur Strukturerzeugung Stempel anstelle von Strahlung verwenden.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-33461.html