Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Diffusion properties of ion-implanted vanadium in PECVD-SiO2 and PECVD-SiN(x)

 
: Isenberg, J.; Reber, S.; Warta, W.

:

Journal of the Electrochemical Society 150 (2003), No.7, pp.G365-G370
ISSN: 0013-4651
English
Journal Article
Fraunhofer ISE ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-32719.html