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2014
Journal Article
Titel
Optimiertes Schreiben optischer Mikrostrukturen
Abstract
Um die Zwei-Photonen-Lithografie als Produktionsverfahren für individuelle Mikrostrukturen zu erschließen, müssen die Schreibdauer verkürzt und die Oberflächengüten verbessert werden. Die Untersuchung unterschiedlicher Schreibvariationen zeigte nun, wie sich beide Ziele erreichen lassen.