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Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von insbesondere EUV-Strahlung und/oder weicher Roentgenstrahlung

Generation method of extreme ultraviolet radiation and/or soft X-ray radiation, involves transmitting electrical energy to plasma using charge carriers made available in discharge space by introducing radiation inside space.
 
: Derra, G.H.; Apetz, R.T.; Zink, P.; Neff, W.; Rosier, O.

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DE 2003-10359464 A: 20031217
DE 2003-10359464 A: 20031217
WO 2004-EP9695 A: 20040831
WO 2004-IB52769 A: 20041213
DE 10359464 A1: 20050728
H05G0002
B62D0021
H05G0001
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer ILT ()

Abstract
Es wird ein Verfahren zum Erzeugen von insbesondere EUV-Strahlung (12) und/oder weicher Roentgenstrahlung (12a), die von einem Plasma (26) emittiert wird, beschrieben. Das Plasma (26) wird von einem Arbeitsgas (22) in einem Entladungsraum (14) gebildet, der mindestens einen Strahlaustritt (16) und ein Elektrodensystem mit mindestens einer Anode (18) und mindestens einer Kathode (20) aufweist. Dieses Elektrodensystem uebertraegt elektrische Energie mittels in den Entladungsraum (14) eingebrachter Ladungstraeger (24) in das Plasma (26). Zur sicheren Zuendung des Plasmas (26) bei hohen Wiederholfrequenzen wird vorgeschlagen, dass zur Bereitstellung der Ladungstraeger (24) in den Entladungsraum (14) mittels einer von mindestens einer Strahlenquelle (28) erzeugte Strahlung (30) eingeleitet wird.

 

WO2005060321 A UPAB: 20050818 NOVELTY - A plasma (26) is formed by an operating gas (22) in a discharge space (14) comprising a radiation emission window (16) and an electrode system with an anode (18) and a cathode (20). Electrical energy is transmitted to plasma by electrode system using charge carriers (24) made available in the discharge space by introducing the radiation (30) generated by a radiation source (28). DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for device for generating extreme ultraviolet radiation and/or soft X-ray radiation. USE - For generating extreme ultraviolet (EUV) radiation and/or soft X-ray radiation, for use in lithographic process in manufacture of semiconductor. ADVANTAGE - Enables reliable ignition of gas discharge at high repetition frequencies and with longer operating pauses by simple structure.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-30965.html