Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Reactive high rate D.C. sputtering: Deposition rate, stoichiometry and features of TiOx and TiNx films with respect to the target mode

 
: Schiller, S.; Beister, G.; Sieber, W.

:

Thin solid films 111 (1984), No.3, pp.259-268
ISSN: 0040-6090
English
Journal Article
Fraunhofer FEP ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-30228.html