Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Reaktive D.C. sputtering with the magnetron-plasmatron for tantalum pentoxide and titanium dioxide films

 
: Schiller, S.; Heisig, U.; Steinfelder, K.; Strümpfel, J.

:

Thin solid films 63 (1979), No.2, pp.369-375
ISSN: 0040-6090
English
Journal Article
Fraunhofer FEP ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-30213.html