Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Growth Evolution and Interface Modification of Sputtered cBN Films

 
: Yamamoto, K.

Stuttgart: Fraunhofer IRB Verlag, 2000, 140 pp. : Ill., Lit.
Zugl.: Braunschweig, TU, Diss., 2000
Berichte aus Forschung und Entwicklung, 10
ISBN: 3-8167-5594-1
ISBN: 978-3-8167-5594-4
English
Dissertation
Fraunhofer IST ()
kubisches Bornitrid; Beschichtungsprozess

Abstract
Kubisches Bornitrid (cBN) ist ein attraktives Material für tribologische Applikationen mit vielen günstigen Eigenschaften, wie außergewöhnlichen Härte und chemischen Beständigkeit. Speziell diese Eigenschaften machen cBN zu einem bevorzugten Kandidaten für Werkzeugbeschichtungen. Jedoch ergaben umfangreiche Forschungen über mehr als zwei Jahrzehnte, daß noch zahlreiche technische Probleme gelöst werden müssen, um mehr als 1 mm dicke und stabile cBN Schichten abzuscheiden. Die Hauptaufgabe dieser Arbeit war die Optimierung des cBN Beschichtungsprozesses zur Erzielung dicker und beständiger Schichten. Die cBN Schichten wurden mit einer Hochfrequenz-Diodensputteranlage mit einem B4C Target hergestellt. Die Untersuchung des Einflusses verschiedener Parameter wie Substratspannung, Targetleistung und magnetische Feldstärke auf die initiale Entwicklung von cBN Schichten zeigte, daß die Dicke der sp2 gebundenen BN-Zwischenschicht (tBN) erheblich von diesen Größen beeinflußt wird.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-3007.html