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Katodenzerstaeubungsverfahren

Cathode sputtering process comprises preparing components of a reactive gas mixture, controlling gas flows from the reservoirs, forming a reactive gas mixture, removing part of the mixture, and feeding to a vacuum chamber.
 

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DE 2003-10324556 A: 20030530
DE 2003-10324556 A: 20030530
DE 10324556 A1: 20041216
C23C0014
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft ein Katodenzerstaeubungsverfahren in einer Vakuumkammer zum Abscheiden einer duennen Schicht, die zumindest teilweise aus mindestens zwei chemischen Verbindungen mit in Wachstumsrichtung veraenderlichen Anteilen dieser Verbindungen besteht, wobei jede dieser Verbindungen durch reaktives Zerstaeuben des gleichen Targetmaterials unter zumindest teilweisem Einbau unterschiedlicher Bestandteile eines Reaktivgasgemisches gebildet wird und der Gehalt des Reaktivgases an den schichtbildenden reaktiven Gaskomponenten einer vorgebbaren zeitlichen Vorschrift folgt, bei dem - mindestens zwei Bestandteile des Reaktivgasgemisches aus unterschiedlichen Gasreservoiren bereitgestellt werden, - aus diesen Gasreservoiren abfliessende Gasstroeme einzeln mittels Massen- oder Volumendurchflussreglern geregelt werden, - diese geregelten Gasstroeme in mindestens einem separaten Mischgasgefaess zu einem Reaktivgasgemisch zusammengefuehrt werden, - ein Anteil von mindestens 10 Prozent des eingelassenen Reaktivgasgemisches durch eine Pumpe abgesaugt wird, ohne in die Vakuumkammer zu gelangen, und - aus dem Mischgasgefaess mittels eines Regelventils mit einer Zeitkonstante von hoechstens 50 msec ein Reaktivgasgemisch derart in die Vakuumkammer eingelassen wird, dass der reaktive Sputterprozess im "Transition mode" stabilisiert wird.

 

DE 10324556 A UPAB: 20050117 NOVELTY - Cathode sputtering process comprises preparing at least two components of a reactive gas mixture from different gas reservoirs, controlling gas flows from the reservoirs, combining the controlled gas flows to form a reactive gas mixture in a mixing gas vessel, removing at least 10 % of the reactive gas mixture using a pump, and feeding to a vacuum chamber. USE - Used in the production of rugate filters, dichroitic filters, cut-off filters, bandpass filters, high pass filters, deep pass filters, antireflection coatings and wavelength multiplexing filters (claimed). ADVANTAGE - The process is reproducible.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-28237.html