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Vorrichtung zur Erzeugung von EUV- und weicher Roentgenstrahlung

Gas discharge source for generating extreme ultraviolet and/or soft X-ray radiation e.g. for semiconductor lithography, has diaphragm acting as differential pumping stage between gas discharge electrodes.
 
: Bergmann, K.; Neff, W.

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DE 2003-10336273 A: 20030807
DE 2003-10336273 A: 20030807
WO 2004-IB51323 A: 20040729
DE 10336273 A1: 20050310
H05G0002
H01J0061
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer ILT ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Gasentladungsquelle, insbesondere zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolett- und/oder weicher Roentgenstrahlung, bei der sich zwischen zwei Elektroden (1, 2) ein gasgefuellter Elektrodenzwischenraum (3) befindet, bei der Vorrichtungen zum Einlassen und Abpumpen von Gas vorhanden sind und bei der eine Elektrode (1) eine eine Symmetrieachse (4) definierende und fuer den Austritt von Strahlung vorgesehene Oeffnung (5) aufweist. Die vorgeschlagenen Verbesserungen bestehen darin, dass zwischen den beiden Elektroden (1, 2) eine zumindest eine Oeffnung (7) auf der Symmetrieachse (4) aufweisende und als differentielle Pumpstufe wirkende Blende (6) vorhanden ist.

 

WO2005015602 A UPAB: 20050324 NOVELTY - The gas discharge source has a gas-filled intermediate space (3) between 2 electrodes (1,2), with devices for supplying and extracting gas to and from this space, one of the electrodes having a radiation exit opening (5) defining an axis of symmetry (4). A diaphragm (6) acting as a differential pumping stage is positioned between the electrodes and has least one opening (7) aligned with the axis of symmetry. USE - The gas discharge source is used for generating extreme ultraviolet and/or soft X-ray radiation in a wavelength range between 1 and 20nm, e.g. for semiconductor lithography. ADVANTAGE - Use of diaphragm as differential pumping stage allows provision of required pressure ratio in intermediate space between gas discharge electrodes.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-28190.html