Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Streulichtanalyse für die Nanotechnotechnik

 
: Schröder, S.; Gliech, S.; Duparre, A.

Photonik 37 (2005), No.1, pp.65-66
ISSN: 1432-9778
German
Journal Article
Fraunhofer IOF ()

Abstract
Der anhaltende Trend in der optischen Lithographie zu kleineren Halbleiterstrukturen und damit zu immer kürzeren Lichtwellenlängen der Wafer-Stepper hat zur Folge, dass Verluste durch Streuung eine kritische Rolle einnehmen. Die aktuelle Roadmap der Halbleiterindustrie zielt gegenwärtig darauf ab, bis zum Zeitpunkt der Anwendungsreife der EUV-Lithographie (13nm) die Optimierung im DUV-Bereich bei 193nm bis an ihre Grenzen voranzutreiben (ohne dass dabei die Wiederaufnahme von Aktivitäten bei 157nm ausgeschlossen werden kann).

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-27345.html