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Title
Reflexionsbeugungsgitter und Verfahren zu dessen Herstellung
Date Issued
2012
Author(s)
Fuchs, Frank
Patent No
102012103443
Abstract
Es wird ein Reflexionsbeugungsgitter (10) angegeben, das ein Substrat (1) und ein reflexionserhöhendes Interferenzschichtsystem (2) umfasst, wobei das reflexionserhöhende Interferenzschichtsystem (2) abwechselnde niedrigbrechende dielektrische Schichten (21) mit einem Brechungsindex n1 und hochbrechende dielektrische Schichten (22) mit einem Brechungsindex n2 > n1 aufweist. Das Reflexionsbeugungsgitter umfasst ferner ein Gitter (3), das eine Gitterstruktur (31), die in der obersten niedrigbrechenden Schicht (21a) auf einer vom Substrat (1) abgewandten Seite des Interferenzschichtsystems (2) ausgebildet ist, und eine Deckschicht (32), welche die Gitterstruktur (31) konform bedeckt, enthält. Die Deckschicht (32) weist einen Brechungsindex n3 > n1 auf. Weiterhin wird ein vorteilhaftes Verfahren zur Herstellung des Reflexionsbeugungsgitters (10) angegeben.
The invention relates to a reflective diffraction grating (10) comprising a substrate (1) and a reflection-enhancing interference layer system (2), wherein said reflection-enhancing interference layer system (2) has dielectric layers (21) with a low refractive index, having a refractive index of n1, alternating with dielectric layers (22) with a high refractive index, having a refractive index of n2 > n1. The reflective diffraction grating further comprises a grating (3), which includes a grating structure (31) that is formed in the uppermost layer (21a) with a low refractive index on a side of the interference layer system (2) facing away from the substrate (1), and also includes a cover layer (32), which conformally covers the grating structure (31). The cover layer (32) has a refractive index of n3 > n1. The invention further specifies an advantageous method for producing said reflective diffraction grating (10).
Language
de
Patenprio
DE 102012103443 A1: 20120419