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Projektssystem mit statischen Mustererzeugungselementen und mehreren optischen Kanälen zur optischen 3D-Vermessung

PROJECTION SYSTEM WITH STATIC PATTERN GENERATION ELEMENTS AND A PLURALITY OF OPTICAL CHANNELS FOR OPTICAL 3-D MEASUREMENT
 
: Breitbarth, Andreas; Notni, Gunther; Kühmstedt, P.; Schreiber, P.; Sieler, M.

:
Frontpage ()

DE 102012206472 A1: 20120419
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IOF ()

Abstract
Ein Projektionssystem zur Projektion zumindest eines Musters auf zumindest ein in einer Messobjektregion befindliches Objekt umfasst eine erste Lichtquelle, eine zweite Lichtquelle, eine erste Projektorgruppe und eine zweite Projektorgruppe. Sowohl die erste Projektorgruppe als auch die zweite Projektorgruppe umfasst mehrere zweidimensional angeordnete Projektoreinheiten. Jede Projektoreinheit umfasst ein statisches Mustererzeugungselement, eine in einer Durchleuchtungsrichtung vor dem statischen Mustererzeugungselement liegende Feldlinse und eine in der Durchleuchtungsrichtung hinter dem statischen Mustererzeugungselement liegenden Projektionslinse. Jede Projektoreinheit ist konfiguriert, auf von der ersten bzw. zweiten Lichtquelle ausgesendetes Licht zu wirken und ein jeweiliges Teilmuster zu projizieren.; Die erste Projektorgruppe ist der ersten Lichtquelle und die zweite Projektorgruppe der zweiten Lichtquelle zugeordnet. Die erste bzw. zweite Projektorgruppe ist konfiguriert, eine erste bzw. zweite Mehrzahl von Teilmustern zu erzeugen, die ein erstes bzw. zweites resultierendes Muster ergeben und somit mittels einer strukturgebenden Einheit für sich allein betrachtet das erste bzw. zweite resultierende Muster innerhalb der Messobjektregion zu erzeugen. Die erste Lichtquelle und die zweite Lichtquelle sind unabhängig voneinander ansteuerbar, so dass das erste resultierende Muster und das zweite resultierende Muster zu verschiedenen Zeiten oder mit verschiedenen Helligkeiten projiziert werden können.

 

A projection system (20) for projecting at least one pattern onto at least one object (1) in a measurement object region comprises a first light source (22-1; 922), a second light source (22-2), a first projector group (25-1; 725; 825-1; 925-1) and a second projector group (25-2; 825-2; 925-2). Both the first projector group and the second projector group comprise a plurality of projector units (30-1 to 30-8) arranged in a two-dimensional manner. Each projector unit comprises a static pattern generation element (32-1 to 32-9; 832-1 to 832-9, 832-11 to 832-19), a field lens (33-1 to 33-9) in front of the static pattern generation element in an x-raying direction and a projection lens (35-1 to 35-9) behind the static pattern generation element in the x-raying direction. Each projector unit is configured to act on light emitted by the first or second light source and to project a respective partial pattern. The first projector group (825-1) is assigned to the first light source (22-1) and the second projector group (825-2) is assigned to the second light source (22-2). The first and second projector groups are configured to generate a first and a second plurality of partial patterns, respectively, which produce a first and a second resultant pattern, and therefore to generate the first and second resultant patterns inside the measurement object region using a structuring unit alone. The first light source and the second light source can be controlled independently of one another, with the result that the first resultant pattern and the second resultant pattern can be projected at different times or with different brightnesses.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-271005.html