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Nanoskalige Oberflächenstruktur zur Verbesserung der Adhäsion

NANOSCALE SURFACE STRUCTURE FOR IMPROVING ADHESION
 
: Emmerich, Rudolf; Dreher, Ralf; Urban, H.; Graf, M.

:
Frontpage ()

DE 102011086399 A1: 20111115
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer ICT ()

Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein poröses, nanostrukturiertes Schichtsystem, umfassend - ein Trägermaterial, das ein Substrat aufweist, auf dem optional eine oder mehrere Schichten aufgebracht sein können, - auf dem Trägermaterial zumindest eine erste poröse, Spalten aufweisende und durch plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) erhältliche Schicht AL1, die beabstandete, sich nach oben zumindest abschnittsweise verbreiternde Agglomerate umfasst, wobei die poröse, Spalten aufweisende PECVD-Agglomeratschicht AL1 aufgrund der beabstandeten Agglomerate eine mittlere Spaltenbreite im Bereich von 3-500 nm, bestimmt an einer rasterelektronenmikroskopischen Aufnahme in Draufsicht, aufweist.

 

The invention relates to a porous, nanostructured layer system comprising a carrier material that has a substrate onto which one or more layers can optionally be applied, and there being, on said carrier material, at least one first porous layer AL1 which comprises gaps, which is obtained by plasma-enhanced chemical vapour deposition (PECVD), and which comprises agglomerates that are spaced apart and broaden towards the top in at least some sections. As a result of these spaced agglomerates, this porous PECVD agglomerate layer AL1 containing gaps has an average gap width d1 ranging from 3 to 500 nm, determined on a scanning electron micrograph in plan view.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-270859.html