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Verfahren zum Bedampfen bandfoermiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid

Process for vapor deposition of transparent aluminum oxide barrier layer on strip type substrate used in production of packaging materials involves reactive vapor deposition of aluminum and admission of reactive gas in vapor deposition unit.
 
: Schiller, N.; Straach, S.; Raebisch, M.; Fahland, M.; Charton, C.

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DE 2002-10255822 A: 20021129
DE 2002-10255822 A: 20021129
WO 2003-EP11477 A: 20031016
WO 2004050945 A3: 20040812
EP 2003-757995 AW: 20031016
DE 10255822 A1: 20040617
EP 1565591 B1: 20071010
C23C0014
C23C0014
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bedampfen bandfoermiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid durch reaktive Verdampfung von Aluminium und Einlass von Reaktivgas in einer Bandbedampfungsanlage, bei dem vor der Beschichtung mit Aluminiumoxid eine unvollstaendig geschlossene Schicht aus einem Metall oder einem Metalloxid durch Magnetronsputtern auf das Substrat aufgebracht wird.

 

DE 10255822 A UPAB: 20040712 NOVELTY - A process for vapor deposition on a strip type substrate of a transparent aluminum oxide barrier layer by reactive vapor deposition of aluminum and admission of reactive gas in a strip vapor deposition unit, where the aluminum oxide coating forms an imperfect closed layer of metal or metal oxide by magnetic sputtering onto the substrate. USE - The process is useful in the production of packaging materials, especially polymer materials carrying a vapor deposited metallic layer and having high barrier action against oxygen, water vapor, and aromatics, and also in food production. ADVANTAGE - The method gives transparent barrier layers based on aluminum oxide at low cost.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-24875.html