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Patent
Title
Verfahren zur temperaturgeregelten Prozessierung von Substraten
Other Title
Temperature regulated processing system for substrates including thick film contacts for solar cells has quartz tube with gas inlet, inspection window and pyrometer, surrounded by heating coil.
Abstract
Beschrieben wird ein Verfahren zur temperaturgeregelten Prozessierung von Substraten, insbesondere zum Feuern von Dickfilmkontakten auf Solarzellen, bei dem die Substrate in eine Reaktionskammer eingebracht, in der Reaktionskammer aufgeheizt und anschliessend abgekuehlt werden. Die Temperatur der Substrate wird waehrend der Prozessierung ueber zumindest einen beruehrungslosen Detektor gemessen. Vor dem Einbringen in die Reaktionskammer wird auf die Substrate zumindest abschnittsweise ein Material aufgebracht, bei dem bei einer bekannten Temperatur-Waermeabgabe oder -Waermeaufnahme eine sprunghafte Aenderung der physikalischen und/oder chemischen Eigenschaften auftritt. Diese Aenderung wird waehrend der Prozessierung detektiert und zur Kalibrierung oder Nachkalibrierung des beruehrungslosen Detektors herangezogen. Das erfindungsgemaesse Verfahren zeichnet sich dadurch aus, dass die Schicht auf einer dem beruehrungslosen Detektor abgewandten Seite der Substrate aufgebracht und die sprunghafte Aenderung ueber eine zusaetzliche Temperierung der Substrate detektiert wird, die durch die Waermeabgabe oder Waermeaufnahme bewirkt wird.
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DE 10325602 B UPAB: 20041001 NOVELTY - The temperature regulated radiation furnace (1) incorporates a quartz tube (7) with a support allowing gas to circulate round both sides of a substrate (6) undergoing treatment. It has a gas inlet (9) at one end and a door (5) at the other end. DETAILED DESCRIPTION - There is an inspection window (11) in the tube adjacent to the substrate. The quartz tube is surrounded by a heating coil (4) inside an insulating housing (3). An inspection opening (12) in the insulating housing allows a pyrometer (13) to look through the inspection window and register the temperature of the substrate. USE - Furnace for heat treatment of substrates, including thick film contacts for solar cells, in controlled atmosphere. ADVANTAGE - Pyrometer directly monitors IR given off by electronic substrate under treatment for accurate control of temperature.
Inventor(s)
Huljic, D.M.
Patent Number
2003-10325602
Publication Date
2004
Language
German