Fraunhofer-Gesellschaft

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Kritische Kontaminationen in Zukunftsindustrien

Vortrag gehalten auf der Lounges 2013/Vision Pharma 2013, 5. bis 7. Februar 2013, Karlsruhe; Vortrag Session 37: IPA - Reinheitstauglichkeit & Contamination II, 7.2.2013
 
: Bürger, Frank; Brückner, Mathias; Gommel, Udo

:
presentation urn:nbn:de:0011-n-2384340 (836 KByte PDF)
MD5 Fingerprint: 2e979fd2239f8d53d1ef23230896b7c6
Created on: 23.4.2013


2013, 16 Folien
Messe "Lounges" <2013, Karlsruhe>
Messe "Vision Pharma" <2013, Karlsruhe>
German
Presentation, Electronic Publication
Fraunhofer IPA ()
Partikelemission; Reinheitstechnik; Vakuum; Reibpaarung; Kontaminationsquelle; Partikelgenerierung; Prozeßgerät; Partikel; Kontamination; Reinraum; Werkstoff; Verschleiß

Abstract
In den sogenannten Zukunfts-Industrien (Chipindustrie, Flachbildschirmfertigung, Photovoltaik) und in den Forschungsbereichen Elementarteilchenphysik/Teilchenbeschleuniger, OLED, Weltraumforschung, etc. sind Reinheitsanforderungen zu berücksichtigen. Eine der wichtigsten Anforderungen ist die Minimierung von Partikeln, die auf Grund mechanischer Reibung/Verschleiß entstehen. Die o.g. Industrie- und Forschungsbereiche nutzen Vakuumtechnologie. Im Vakuum sind Reib- und Verschleißvorgänge wegen fehlender Oxid- und Feuchtigkeitsfilme auf Reiboberflächen deutlich unterschiedlich zu Anwendungen im atmosphärischen Bereich. Die Prozessgeräte und Automatisierungskomponenten (Türen, Ventile, Roboter, Lineareinheiten, XY-Tische, Greifer) weisen häufig Partikelquellen auf. Die Auswahl geeigneter Werkstoffe ist speziell in Vakuumanwendungen ein wirksamer Ansatz zur Minimierung der Partikelgenerierung. Am Fraunhofer IPA wurde ein Prüfstand zur Bestimmung des Partikelemissionsverhaltens an Reibpaarungen unter Vakuumbedingungen konzipiert und aufgebaut.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-238434.html