Options
2013
Presentation
Titel
Kritische Kontaminationen in Zukunftsindustrien
Titel Supplements
Vortrag gehalten auf der Lounges 2013/Vision Pharma 2013, 5. bis 7. Februar 2013, Karlsruhe; Vortrag Session 37: IPA - Reinheitstauglichkeit & Contamination II, 7.2.2013
Abstract
In den sogenannten Zukunfts-Industrien (Chipindustrie, Flachbildschirmfertigung, Photovoltaik) und in den Forschungsbereichen Elementarteilchenphysik/Teilchenbeschleuniger, OLED, Weltraumforschung, etc. sind Reinheitsanforderungen zu berücksichtigen. Eine der wichtigsten Anforderungen ist die Minimierung von Partikeln, die auf Grund mechanischer Reibung/Verschleiß entstehen. Die o.g. Industrie- und Forschungsbereiche nutzen Vakuumtechnologie. Im Vakuum sind Reib- und Verschleißvorgänge wegen fehlender Oxid- und Feuchtigkeitsfilme auf Reiboberflächen deutlich unterschiedlich zu Anwendungen im atmosphärischen Bereich. Die Prozessgeräte und Automatisierungskomponenten (Türen, Ventile, Roboter, Lineareinheiten, XY-Tische, Greifer) weisen häufig Partikelquellen auf. Die Auswahl geeigneter Werkstoffe ist speziell in Vakuumanwendungen ein wirksamer Ansatz zur Minimierung der Partikelgenerierung. Am Fraunhofer IPA wurde ein Prüfstand zur Bestimmung des Partikelemissionsverhaltens an Reibpaarungen unter Vakuumbedingungen konzipiert und aufgebaut.