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Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses

 
: Laukart, Artur

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Fulltext urn:nbn:de:0011-n-2342200 (4.1 MByte PDF)
MD5 Fingerprint: a9ea0c3a0d5761fd7b834daf7c79c13d
Created on: 23.3.2013

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Stuttgart: Fraunhofer Verlag, 2013, IX, 172 pp.
Zugl.: Braunschweig, TU, Diss., 2013
Berichte aus Forschung und Entwicklung, 36
ISBN: 3-8396-0528-8
ISBN: 978-3-8396-0528-8
German
Dissertation, Electronic Publication
Fraunhofer IST ()
Angewandte Forschung; applied research

Abstract
Heißdraht-CVD bzw. Hot-Wire Chemical Vapor Deposition (HWCVD) wird als vielversprechende Alternative für das etablierte Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) für die großflächige Abscheidung siliziumbasierter Schichten gesehen. Eine während des Beschichtungsprozesses an den Drähten ablaufende, nicht erwünschte Phasenumwandlung führt nach wenigen Stunden Beschichtungszeit zu mechanischem Versagen der Drähte und damit zu einem Abbruch des Beschichtungsprozesses.
In der vorliegenden Arbeit wurde diese Phasenumwandlung am Beispiel des Drahtmaterials Wolfram untersucht. Mit Hilfe thermodynamischer Rechnungen und Beschichtungsexperimenten wurden Varianten aufgezeigt, um die Phasenumwandlung zu unterdrücken, ohne die für die Schichtabscheidung entscheidenden Prozessparameter zu beeinflussen.
Eine der vorgestellten Varianten hat das Potential für eine durchgehende Beschichtungszeit von mehreren Wochen.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-234220.html