Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

EUV mask simulation for AIMS

 
: Windpassinger, R.; Rosenkranz, N.; Scherübl, T.; Evanschitzky, P.; Erdmann, A.; Zibold, A.

Kimmel, K.R. ; Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers -SPIE-, Bellingham/Wash.:
23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology 2003. Pt.2 : 9 - 12 September 2003, Monterey, California, USA
Bellingham/Wash.: SPIE, 2003 (SPIE Proceedings Series 5256)
ISBN: 0-8194-5143-6
pp.1249-1258
Symposium on Photomask Technology <23, 2003, Monterey/Calif.>
English
Conference Paper
Fraunhofer IISB ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-21734.html