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Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Deckelektroden auf organischen elektonischen Elementen

PROCESS AND APPARATUS FOR PRODUCING COVERING ELECTRODES ON ORGANIC ELECTRONIC ELEMENTS
 
: Gil, T.H.; May, C.; Franke, S.; Fahlteich, J.; Schiller, N.

:
Frontpage ()

DE 102010053722 A
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IPMS ()

Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung für die Herstellung von Deckelektroden auf organischen elektronischen Elementen. Aufgabe der Erfindung ist es, Möglichkeiten für die Herstellung von Deckelektroden auf organischen elektronischen Elementen anzugeben, mit denen diese Deckelektroden mit konstanter Schichtdicke, reproduzierbar und erhöhter Beschichtungsrate, bei Vermeidung von Defekten oder eine Beeinflussung organischer Schichtkomponenten, ausgebildet werden können. Bei der Erfindung werden Halbzeuge für organische elektronische Elemente ohne Deckelektroden in einem Abstand zu mindesten zwei aus dem Deckelektrodenwerkstoff gebildeten Targets in einer Vakuumkammer angeordnet. Die Halbzeuge und die Targets werden mit jeweils einer Magnetron Sputterquelle mit einer Transportvorrichtung relativ zueinander bewegt.; Die Magnetron Sputterquellen werden mit den Targets alternierend mit elektrischer Spannung beaufschlagt und zwischen den Targets wird ein Plasma generiert, mit dessen freien Ladungsträgern die Deckelektroden auf den Halbzeugen ausgebildet werden.

 

The invention relates to a process and an apparatus for producing covering electrodes on organic electronic elements. It is an object of the invention to provide possible ways of producing covering electrodes on organic electronic elements, by means of which these covering electrodes can be formed with a constant layer thickness and at a reproducible and increased coating rate while avoiding defects or influencing of organic layer components. According to the invention, semifinished parts for organic electronic elements without covering electrodes are arranged at a distance from at least two targets made of the covering electrode material in a vacuum chamber. The semifinished parts and the targets with in each case a magnetron sputtering source are moved relative to one another by means of a transport device. The magnetron sputtering sources with the targets are alternately supplied with an electric potential and a plasma by means of whose free charge carriers the covering electrodes are formed on the semifinished parts is generated between the targets.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-214475.html