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2011
Conference Paper
Titel
Simulation und Layoutautomatisierung von optischen Nanostrukturen in CMOS-Prozessen
Abstract
Moderne CMOS-Prozesse ermöglichen die Herstellung strukturierter Metallschichten mit spektral selektiven und pola-risationsselektiven Eigenschaften für sichtbares Licht. Mit Hilfe solcher sog. "optischer Nanostrukturen" können Multispektralsensoren und Polarisationssensoren sowie erweiterte Arten von Bildsensoren kostengünstig hergestellt werden. Die Forschung an optischen Nanostrukturen wird beschleunigt durch Finite Difference Time Domain Simulation und durch eine automatisierte Layouterzeugung. Die experimentellen Ergebnisse belegen die Realisierbarkeit von Farb- und Polarisationsfiltern.
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Modern CMOS processes allow the fabrication of structured metal layers with spectral and polarization selective properties for visible light. Using such "optical nanostructures", multispectral sensors and polarization sensors as well as enhanced image sensors can be manufactured in a cost-effective way. The research on optical nanostructures is accelerated by Finite Difference Time Domain simulation and by automated layout generation. The experimental results demonstrate the feasibility of color and polarization filters.