Fraunhofer-Gesellschaft

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Cleanroom suitability of materials and equipments

 
: Gommel, Udo

:
presentation urn:nbn:de:0011-n-2062233 (1.7 MByte PDF)
MD5 Fingerprint: ee05023d8fcdf838944cbde671b2b1b6
Created on: 28.6.2012


Saxony Economic Development Corporation:
Newest innovations for semiconductor industry from Saxony and Japan for better energy efficiency : Workshop, 5.12.2011, Tokyo, Japan
Tokyo, 2011
29 Folien
Workshop "Newest Innovations for Semiconductor Industry from Saxony and Japan for better Energy Efficiency" <2011, Tokyo>
English
Conference Paper, Electronic Publication
Fraunhofer IPA ()
cleanroom suitable materials (CSM); Reinraumtauglichkeit; VDI 2083 Blatt 17; tested device; Reinheitsspezifikation; Volatile Organic Compound (VOC); Reinigbarkeitsbewertung; Halbleiterindustrie; Reinraum; Halbleiter; Reinheit; Werkstoff; Teilchen

Abstract
For the assessment of the Cleanroom and Cleanliness Suitability of materials for their use in cleanliness sensitive environments the particle emission, the VOC spectrum and as well the cleanability of surfaces have to be determined. The presentation gives an overview about possible methodologies, measurement strategies, assessment techniques and algorithms. To illustrate the topic examples from different industrie branches will be shown.

 

Zur Bestimmung des Reinraum- und Reinheitstauglichkeitesverhaltens von Werkstoffen für sauberkeitskritische Produktionsumgebungen müssen das Partikelemissionsverhalten, das VOC-Spektrum als auch die Reinigbarkeit von Oberflächen bestimmt werden. Der Vortrag gibt einen Abriss über mögliche Vorgehenweisen, Messstrategien, Bewertungstechniken und -algorithmen. Zur Veranschaulichung werden Beispiele aus unterschiedlichen Anwendungsszenarien herangezogen.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-206223.html