Simulation des reaktiven Magnetron-Sputterprozesses in Inline-Anlagen

Das reaktive Magnetronsputtern von optischen Schichten stellt eine industriell etablierte Beschichtungstechnologie dar, die sich durch hohe Produktivität und exzellente Schichteigenschaften auszeichnet. Dennoch besteht Bedarf fär weitreichende Optimierungen. Probleme resultieren vor allen aus den folgenden Bereichen: Schlechte Übertragbarkeit von Laborergebnissen auf Produktionsanlagen, hohe Kosten durch aufwändige Technologie und geringe Beschichtungsraten sowie eingeschränkte Produktqualität bei Spezialanwendungen, wie zum Beispiel der Festmaß- anstelle der Bandmaß-Beschichtung von Architekturglas. Gerade die wirtschaftlich hoch attraktive Prozessführung im Bereich instabiler Prozessparameter (""Transition Mode"") erweist sich als industriell nur sehr schwer umsetzbar.