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Title
Verfahren zur Bestimmung von Parametern einer Proximity-Funktion, insbesondere fuer die Korrektur des Proximity-Effekts bei der Elektronenstrahllithografie
Date Issued
2009
Author(s)
Hauptmann, M.
Steidel, K.
Jaschinsky, P.
Choi, K.
Gutsch, M.
Patent No
102009049787
Abstract
(A1) Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung von Parametern einer Proximity-Funktion bei der Elektronenstrahl-Lithografie. Die Bestimmung der Parameter erfolgt dabei auf Basis mindestens eines Testmusters und von Messergebnissen, die aus einer Vermessung von mit dem Testmuster erzeugten Strukturen erhalten werden. Beim vorgeschlagenen Verfahren wird als Testmuster eine periodische Struktur eingesetzt, die bei der Bestimmung der Parameter mit einer Fourier-Reihen-Entwicklung dargestellt wird. Das Verfahren ermoeglicht die Bestimmung der Proximity-Parameter mit einem geringeren zeitlichen und experimentellen Aufwand als bisher bekannte Verfahren.
DE 102009049787 A1 UPAB: 20110511 NOVELTY - The method involves determining parameters of the proximity-function based on test patterns and measuring results from measurement of structures that are produced with the test patterns. A periodic structure is utilized as the test patterns and represented, during determination of a parameter with Fourier-series-evolution. The frequency modulated periodic structure exhibits parallel line with a breadth and distance that are varied according to frequency modulation. The proximity function represents a point spread function, which is formed by sum of two Gaussian-functions. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a computer program product that comprises program codes for implementing the method for determining the parameters of the proximity-function. USE - Method for determining parameters of a proximity-function for correction of proximity-effects, during electron beam-lithography. ADVANTAGE - The method enables determining parameters of the proximity-function, during electron beam-lithography in a simple and fast manner without requiring different test structures and additional exposures and measurements for increasing statistical safety.
Language
de
Institute
Patenprio
DE 102009049787 A: 20091019