Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Patterning of deep silicon trenches using a novel hardmask concept with ultra-thin E-Beam resist

 
: Paul, J.; Riedel, S.; Wege, S.; Beyer, V.; Kücher, P.

Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik -IWS-, Dresden:
Nanofair 2010, 8th International Nanotechnology Symposium. Abstractband : New Ideas for Industry, Dresden, 06./07.07.2010
Dresden, 2010
pp.183
International Nanotechnology Symposium (Nanofair) <8, 2010, Dresden>
English
Abstract
Fraunhofer CNT ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-151476.html