Fraunhofer-Gesellschaft

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Ein Beitrag zu kalibrierten Nanometerschichten für unterschiedliche Anwendungsbereiche

 
: Hasche, K.; Herrmann, K.; Thomsen-Schmidt, P.; Krumrey, M.; Ulm, G.; Ade, G.; Pohlenz, F.; Stümpel, J.; Busch, I.; Schädlich, S.; Frank, W.; Hirsch, D.; Schindler, A.; Procop, M.; Beck, U.

Kern, H. ; TU Ilmenau:
Maschinenbau und Nanotechnik - Hochtechnologien des 21. Jahrhunderts : 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium, 23. bis 26. September 2002. Tagungsband
Ilmenau: Technische Universität Ilmenau, 2002
pp.568-569
Internationales Wissenschaftliches Kolloquium <47, 2002, Ilmenau>
German
Conference Paper
Fraunhofer IWS ()
Nanotechnologie; nm-Präzisions-Schicht; PVD (Physical vapour deposition); Geometrie

Abstract
Nanotechnologien werden gegenwärtig als leistungsfähige Oberflächentechniken in erheblichem Umfange industriell genutzt. Dabei spielen dünne Schichten und deren Kenndaten eine wesentliche Rolle, z.B. als Röntgenspiegel oder optische und magnetooptische Datenträger. Die Schichtdicke zählt hierbei zu den technologisch wichtigen Parametern. Abgeleitet von Anwenderinteressen, werden für die Röntgenreflektometrie (XRR bzw. GIXR), Elektronenstrahl-Mikroanalyse (EPMA) und Röntgenfluoreszenzanalyse (XRF) einerseits und die Ellipsometrie andererseits zugeschnittene Schichtdickenmaßverkörperungen (SDM) entwickelt, gefertigt und untersucht. Das Ziel ist die Bereitstellung praxistauglicher, kalibrierter SDM, im weiteren Schichtdickennormale (SDN) genannt. SDN sind Maßverkörperungen, für die der Schichtdickenwert mit einer definierten Messunsicherheit bekannt und auf ein metrologisch anerkanntes Längennormal zurückgeführt ist. Berichtet wird über die Herstellung und messtechnische Charakterisierung der beiden spezifischen Varianten von Maßverkörperungen.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-14872.html