Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Kollektorbeschichtungen für die EUV-Lithographie

Atomlagengenaue Mo/Si Interferenzschichtsysteme
Collector coatings for EUV lithography
 
: Perske, M.; Pauer, H.; Yulin, S.; Trost, M.; Schröder, S.; Duparre, A.; Feigl, T.; Kaiser, N.

:

Vakuum in Forschung und Praxis 22 (2010), No.4, pp.17-21
ISSN: 0947-076X
ISSN: 1522-2454
German
Journal Article
Fraunhofer IOF ()

Abstract
Die Extrem-Ultraviolett-Lithografie (EUVL) bei einer Wellenlänge von 13,5 nm (14-mal kleiner als bei aktuellen Lithografiesystemen) stellt eine innovative Methode dar, integrierte Schaltkreise mit strukturbreiten