
Publica
Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten. Kollektorbeschichtungen für die EUV-Lithographie
Atomlagengenaue Mo/Si Interferenzschichtsysteme
Collector coatings for EUV lithography
| Vakuum in Forschung und Praxis 22 (2010), No.4, pp.17-21 ISSN: 0947-076X ISSN: 1522-2454 |
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| German |
| Journal Article |
| Fraunhofer IOF () |
AbstractDie Extrem-Ultraviolett-Lithografie (EUVL) bei einer Wellenlänge von 13,5 nm (14-mal kleiner als bei aktuellen Lithografiesystemen) stellt eine innovative Methode dar, integrierte Schaltkreise mit strukturbreiten