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Title
Verfahren zur Herstellung einer optischen Wellenleiterschicht
Date Issued
2008
Author(s)
Bollwahn, N.
Schulz, U.
Munzert, P.
Kaiser, N.
Patent No
102008046579
Abstract
(A1) Bei einem Verfahren zur Herstellung einer optischen Wellenleiterschicht (3) wird ein Substrat (4) bereitgestellt, auf das zunaechst eine erste Teilschicht (1) aufgewachsen wird. Nachfolgend wird eine zweite Teilschicht (2) der Wellenleiterschicht (3), die aus dem gleichen Material wie die erste Teilschicht (1) gebildet ist, auf die erste Teilschicht (1) aufgewachsen. Die zweite Teilschicht (2) wird waehrend des Aufwachsens mit Ionen (5) beschossen. Das Verfahren ermoeglicht die Herstellung optischer Wellenleiterschichten auf temperaturempfindlichen Polymersubstraten.
US 20100062175 A1 UPAB: 20100323 NOVELTY - A portion-layers (1,2) of waveguide layers are sequentially provided on substrate (6), in which portion-layer (2) is bombarded with ions when growing. The portion-layers (1,2) contain same material. USE - Manufacture of optical waveguide layer used for biochip in medical diagnostics for analysis of deoxyribonucleic acid (DNA), and determination of antibodies in genetic engineering. ADVANTAGE - The method provides high quality optical waveguide layer having improved adhesiveness, temperature resistance and solvent resistance, and low attenuation on temperature-sensitive substrate.
Language
de
Patenprio
DE 102008046579 A: 20080910