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Solarzelle und Verfahren zur Herstellung einer Solarzelle aus einem Siliziumsubstrat

Solar cell i.e. metallic wrapped through solar cell, manufacturing method, involves forming oxide layer in sub region by thermal oxidation process and retaining masking and oxide layers on substrate in subsequent processes
 
: Biro, D.; Schultz-Wittmann, O.; Lemke, A.; Rentsch, J.; Clement, F.; Hofmann, M.; Wolf, A.; Gautero, L.; Mack, S.; Preu, R.

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DE 102009005168 A: 20090114
DE 102009005168 A: 20090114
H01L0031
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer ISE ()

Abstract
(A1) Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Solarzelle mit einer Vorder- und einer Rueckseite aus einem Siliziumsubstrat (1), insbesondere einem Siliziumwafer, folgende Verfahrensschritte umfassend: A Texturierung mindestens einer Seite des Siliziumsubstrates (1) zur Verbesserung der Absorption bei Beaufschlagung der Solarzelle mit elektromagnetischer Strahlung und/oder Entfernen des Saegeschadens an mindestens einer Seite des Siliziumsubstrates (1), B Erzeugen zumindest eines Emitterbereiches (2) zumindest an Teilbereichen zumindest einer Seite des Siliziumsubstrates (1) durch Eindiffundieren mindestens eines Dotierstoffes, zur Ausbildung mindestens eines pn-Ueberganges, C Entfernen einer Glasschicht auf mindestens einer Seite des Siliziumsubstrates (1), wobei die Glasschicht den Dotierstoff enthaelt, D Aufbringen einer Maskierungsschicht (3) zumindest auf einem Teilbereich zumindest einer Seite des Siliziumsubstrates (1), wobei die Maskierungsschicht (3) eine dielektrische Schicht ist, E Abtragen zumindest eines Teils des Materials des Siliziumsubstrates (1) an mindestens einer Seite des Siliziumsubstrates (1) und/oder Konditionieren mindestens einer Seite des Siliziumsubstrates (1), F Aufbringen von Metallisierungsstrukturen (5, 6) auf Vorderseite (1a) und/oder Rueckseite (1b) des Siliziumsubstrates (1), zur elektrischen Kontaktierung der Solarzelle. Wesentlich ist, dass zwischen den Verfahrensschritten E und F in einem Verfahrensschritt E2 ...

 

DE 102009005168 A1 UPAB: 20100802 NOVELTY - The method involves texturing a side of a silicon substrate (1) i.e. silicon wafer. An emitter (2) is formed at a sub region of the side. A glass layer on the side is removed. A masking layer (3) is applied on the sub region. A portion of a material at the side is stripped. An oxide layer (4) is formed in the sub region by a thermal oxidation process. The masking and the oxide layers are retained on the substrate in subsequent processes. A silicon oxynitride layer is applied on the oxide layer. Metallization structures are applied on a front side (1a) and/or a rear side (1b) of the substrate. USE - Method for manufacturing a solar cell (claimed) i.e. metallic wrapped through solar cell. Can also be used for manufacturing an emitter wrap through solar cell. ADVANTAGE - The rear side of the solar cell has better passivation effects using simple and cost-effective processing steps. The solar cell has high efficiency and is manufactured in simple manner.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-139530.html