Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Deposition of niobium nitride thin films from Tert-Butylamido-Tris-(Diethylamido)-Niobium by a modified industrial MOCVD reactor

 
: Thiede, T.B.; Parala, H.; Reuter, K.; Passing, G.; Kirchmeyer, S.; Hinz, J.; Lemberger, M.; Bauer, A.J.; Barreca, D.; Gasparotto, A.; Fischer, R.A.

:

Chemical vapor deposition: CVD 15 (2009), No.10-12, pp.334-341
ISSN: 0948-1907
ISSN: 1521-3862
English
Journal Article
Fraunhofer IISB ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-114481.html