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Diffraktives Element mit hoher Wellenfrontebenheit

Diffractive element for use as e.g. hologram, in optical applications, has fine structure arranged on laminar function substrate and on laminar carrier substrate, where carrier substrate exhibits higher rigidity than function substrate
 
: Kley, E.; Zeitner, U.D.

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DE 102008014778 A: 20080318
DE 102008014778 A: 20080318
G02B0027
G02B0005
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IOF ()

Abstract
(A1) Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf die Realisierung eines diffraktiven Elements mit hoher Wellenfrontebenheit. Das diffraktive Element besitzt ein flaechiges Funktionssubstrat mit einer ersten Seite, wobei auf oder in der ersten Seite eine Feinstruktur angeordnet ist, und wobei das Funktionssubstrat mit seiner ersten Seite auf einem flaechigen Traegersubstrat angeordnet ist, wobei das Traegersubstrat eine hoehere Steifigkeit als das Funktionssubstrat aufweist.

 

DE 102008014778 A1 UPAB: 20091001 NOVELTY - The element has a fine structure (5) arranged on a side (3) of a laminar function substrate (2) and on a laminar carrier substrate (1), where the laminar carrier substrate exhibits higher rigidity than the function substrate. Surface smoothness of the laminar carrier substrate is higher than surface smoothness of the laminar function substrate before arranging the fine structure, where the laminar function substrate and the laminar carrier substrate are made of a same material. The laminar function substrate and the laminar carrier substrate are connected with each other. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a method for producing a diffractive element. USE - Diffractive element for use as hologram and diffraction grating (all claimed) in optical applications. ADVANTAGE - The metal finishing on the side of the laminar function substrate improves wave front accuracy of the diffractive element.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-106381.html