Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Deep levels of tantalum in silicon carbide and incorporation during crystal growth

 
: Grillenberger, J.; Achtziger, N.; Pasold, G.; Witthuhn, W.

:

Applied Physics Letters 79 (2001), No.15, pp.2405-2407
ISSN: 0003-6951
ISSN: 1077-3118
English
Journal Article
Fraunhofer IIS A ( IIS) ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/B-83841.html