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| 2018 | Diffuse scattering due to stochastic disturbances of 1D-gratings on the example of line edge roughness
Heusinger, M.; Michaelis, D.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2018 | Diffuse scattering of lamellar optical gratings due to line edge roughness
Heusinger, M.; Banasch, M.; Michaelis, D.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2018 | Etendue conserving light shaping using microlens arrays with irregular lenslets
Li, C.; Schreiber, P.; Michaelis, D.; Wächter, C.; Fischer, S.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2017 | 175 nm period grating fabricated by i-line proximity mask-aligner lithography
Bourgin, Y.; Voigt, D.; Käsebier, T.; Siefke, T.; Kley, E.-B.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2017 | Comparison of hyperspectral imaging spectrometer designs and the improvement of system performance with freeform surfaces
Liu, C.; Straif, C.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D.; Gross, H. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2017 | Development of the flight models for the Sentinel-4/UVN NIR-grating unit
Zeitner, U.D.; Kamm, A.; Benkenstein, T.; Flügel-Paul, T.; Leibeling, G. | Konferenzbeitrag |
| 2017 | Large area fabrication technologies for advanced photonic micro- and nano-structures
Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2017 | Light scattering characterization of optical components for space applications
Hauptvogel, M.; Trost, M.; Costille, A.; Penka, D.; Zeitner, U.D.; Schröder, S.; Duparré, A. | Konferenzbeitrag |
| 2017 | Mask aligner lithography using laser illumination for versatile pattern generation
Weichelt, T.; Bourgin, Y.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2017 | Rowland ghost suppression in high efficiency spectrometer gratings fabricated by e-beam lithography
Heusinger, M.; Banasch, M.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2016 | Advanced photomask fabrication by e-beam lithography for mask aligner applications
Weichelt, T.; Bourgin, Y.; Banasch, M.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2016 | Alternative high-resolution lithographic technologies for optical applications
Zeitner, U.D.; Weichelt, T.; Bourgin, Y.; Kinder, R. | Konferenzbeitrag |
| 2016 | High dynamic grayscale lithography with an LED-based micro-image stepper
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.D.; Leitel, R.; Stumpf, M.; Schleicher, P.; Bräuer, A.; Tünnermann, A. | Konferenzbeitrag |
| 2016 | Investigation and optimization of Rowland ghosts in high efficiency spectrometer gratings fabricated by e-beam lithography
Heusinger, M.; Banasch, M.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2016 | Large area gold coated nano-needles fabricated by proximity mask aligner lithography for plasmonic AR-structures
Bourgin, Y.; Michaelis, D.; Käsebier, T.; Dannberg, P.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2016 | New grating concepts in the NIR and SWIR spectral band for high resolution earth-observation spectrometers
Flügel-Paul, T.; Kalkowski, G.; Benkenstein, T.; Harzendorf, T.; Matthes, A.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2016 | Optical design and tolerancing of a hyperspectral imaging spectrometer
Liu, C.; Straif, C.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D.; Gross, H. | Konferenzbeitrag |
| 2016 | Periodic sub-100nm structures fabricated by proximity i-line mask-aligner lithography (and self-aligned double patterning)
Bourgin, Y.; Voigt, D.; Käsebier, T.; Kley, E.-B.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2016 | Photomask displacement technology for continuous profile generation by mask aligner lithography
Weichelt, T.; Kinder, R.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2016 | Temporally-stable active precision mount for large optics
Reinlein, C.; Damm, C.; Lange, N.; Kamm, A.; Mohaupt, M.; Brady, A.; Goy, M.; Leonhard, N.; Eberhardt, R.; Zeitner, U.D.; Tünnermann, A. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2015 | Direct write grayscale lithography for arbitrary shaped micro-optical surfaces
Eckstein, H.-C.; Stumpf, M.; Schleicher, P.; Kleinle, S.; Matthes, A.; Zeitner, U.D.; Brauer, A. | Konferenzbeitrag |
| 2015 | Fabrication of metal mirror modules for snap-together VIS telescopes
Beier, M.; Hartung, J.; Kinast, J.; Gebhardt, A.; Burmeister, F.; Zeitner, U.D.; Risse, S.; Eberhardt, R.; Tünnermann, A. | Konferenzbeitrag |
| 2015 | Measuring position and figure deviation of freeform mirrors with computer generated holograms
Beier, M.; Stumpf, D.; Zeitner, U.D.; Gebhardt, A.; Hartung, J.; Risse, S.; Eberhardt, R.; Gross, H.; Tünnermann, A. | Konferenzbeitrag |
| 2014 | Application of rigorously optimized phase masks for the fabrication of binary and blazed gratings with diffractive proximity lithography
Stuerzebecher, L.; Fuchs, F.; Harzendorf, T.; Meyer, S.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2014 | Extending standard mask lithography exposure technique to spherical surfaces
Stumpf, D.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2014 | Mode shaping for enhanced brightness in broad area lasers using monolithically integrated microoptical structures
Eckstein, H.-C.; Stumpf, M.; Zeitner, U.D.; Lauer, C.; Bachmann, A.; Furitsch, M. | Konferenzbeitrag |
| 2014 | Multi-stencil character projection e-beam lithography: A fast and flexible way for high quality optical metamaterials
Huebner, U.; Falkner, M.; Zeitner, U.D.; Banasch, M.; Dietrich, K.; Kley, E.-B. | Konferenzbeitrag |
| 2014 | Resolution enhancement for advanced mask aligner lithography using phase-shifting photomasks
Weichelt, T.; Vogler, U.; Stuerzebecher, L.; Voelkel, R.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2012 | Advanced mask aligner lithography (AMALITH)
Völkel, R.; Vogler, U.; Bramati, A.; Weichelt, T.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.D.; Motzek, K.; Erdmann, A.; Hornung, M.; Zoberbier, R. | Konferenzbeitrag |
| 2012 | Micromachined array-type mirau interferometer for MEMS metrology
Gorecki, C.; Bargiel, S.; Albero, J.; Passilly, N.; Kujawinska, M.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2012 | Wafer scale fabrication of submicron chessboard gratings using phase masks in proximity lithography
Stürzebecher, Lorenz; Harzendorf, T.; Fuchs, F.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2011 | Control of slow axis mode behaviour with waveguide phase structures in semiconductor broad-area lasers
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.D.; Ahmed, K.; Schmid, W.; Strauss, U. | Konferenzbeitrag |
| 2011 | Effects of metallic nanoparticle arrays in Si solar cell structures
Benkenstein, T.; Flämmich, M.; Harzendorf, T.; Käsebier, T.; Michaelis, D.; Oliva, M.; Wächter, C.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2011 | Electrical instability of a-Si:H TFTs fabricated by maskless laser-write lithography on a spherical surface
Yoo, G.; Radtke, D.; Baek, G.; Zeitner, U.D.; Kanicki, J. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2011 | Improving the brightness of a multi-kilowatt single thin-disk laser by an aspherical phase front correction
Blázquez-Sánchez, D.; Weichelt, B.; Austerschulte, A.; Voss, A.; Graf, T.; Killi, A.; Eckstein, H.-C.; Stumpf, M.; Matthes, A.L.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2011 | Mask aligner process enhancement by spatial filtering
Vogler, U.; Bich, A.; Voelkel, R.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.D.; Hornung, M. | Konferenzbeitrag |
| 2011 | Micromachined array-type Mirau interferometer for parallel inspection of MEMS
Albero, J.; Bargiel, S.; Passilly, N.; Dannberg, P.; Stumpf, M.; Zeitner, U.D.; Rousselot, C.; Gastinger, K.; Gorecki, C. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2011 | Multilevel blazed gratings in resonance domain: An alternative to the classical fabrication approach
Oliva, M.; Harzendorf, T.; Michaelis, D.; Zeitner, U.D.; Tünnermann, A. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2010 | Advanced mask aligner lithography: Fabrication of periodic patterns using pinhole array mask and Talbot effect
Stürzebecher, L.; Harzendorf, T.; Vogler, U.; Zeitner, U.D.; Völkel, R. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2010 | Advanced mask aligner lithography: New illumination system
Voelkel, R.; Vogler, U.; Bich, A.; Pernet, P.; Weible, K.J.; Hornung, M.; Zoberbier, R.; Cullmann, E.; Stuerzebecher, L.; Harzendorf, T.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2010 | Highly efficient three-level blazed grating in the resonance domain
Oliva, M.; Michaelis, D.; Benkenstein, T.; Dunkel, J.; Harzendorf, T.; Matthes, A.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2010 | Modeling and optimization of single-pass laser amplifiers for high-repetition-rate laser pulses
Ozawa, A.; Udem, T.; Zeitner, U.D.; Hänsch, T.W.; Hommelhoff, P. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2010 | Photonic submicron-structures. Effective media for high-performance applications
Zeitner, U.D.; Kley, E.-B.; Tünnermann, A. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2010 | Smart technology for blazed multilevel gratings in resonance domain
Oliva, M.; Benkenstein, T.; Dunkel, J.; Harzendorf, T.; Matthes, A.; Michaelis, D.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2009 | AFM characterization of large area micro-optical elements
Oliva, M.; Benkenstein, T.; Flemming, M.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2009 | Control of slow axis mode behavior with waveguide phase structures in semiconductor broad-area lasers
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.D.; Schmid, W.; Strauss, U. | Konferenzbeitrag |
| 2009 | Large-scale application of binary subwavelength structures
Kley, E.-B.; Freese, W.; Kämpfe, T.; Tünnermann, A.; Zeitner, U.D.; Michaelis, D.; Erdmann, M. | Konferenzbeitrag |
| 2009 | Measuring the spatiotemporal electric field of tightly focused ultrashort pulses with submicron spatial resolution
Bowlan, P.; Fuchs, U.; Trebino, R.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2008 | Diffractive unstable VECSEL-resonator with a Gaussian shaped outcoupled beam
Eckstein, C.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2008 | Diffraktives Element mit hoher Wellenfrontebenheit
Kley, E.; Zeitner, U.D. | Patent |
| 2008 | Experimental realization of a diffractive unstable resonator with Gaussian outcoupled beam using a VECSEL amplifier
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2008 | The making of a computer-generated hologram
Zeitner, U.D.; Banasch, M.; Kley, E.B. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2008 | Measuring the spatio-temporal electric field of tightly focused ultrashort pulses
Bowlan, P.; Fuchs, U.; Trebino, R.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2008 | Measuring the spatiotemporal electric field of tightly focused ultrashort pulses with sub-micron spatial resolution
Bowlan, P.; Fuchs, U.; Gabolde, P.; Trebino, R.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2008 | Mikrostrukturierte Optik für die raum-zeitliche Kontrolle von Licht
Zeitner, U.D. | Habilitationsschrift |
| 2008 | Performance and lifetime of EUV source collectors measured with a full size EUV collector reflectometer
Hinze, U.; Chichkov, B.N.; Feigl, T.; Zeitner, U.D.; Damm, C.; Bolshukhin, D.; Kleinschmidt, J.; Schriever, G.; Schürmann, M.C. | Konferenzbeitrag |
| 2008 | Smatiehs - Smart inspection system for high speed and multifunctional testing of Mems an Moems
Gastinger, K.; Kujawinska, M.; Lovhaugen, O.; Beer, S.; Gorecki, C.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2008 | Stochastic tandem microlens arrays for beam homogenization
Wippermann, F.C.; Radtke, D.; Dannberg, P.; Zeitner, U.D.; Bräuer, A. | Konferenzbeitrag |
| 2008 | Transverse mode selection with waveguide phase structures in semiconductor broad-area lasers
Zeitner, U.D.; Eckstein, C.; Schmid, W. | Konferenzbeitrag |
| 2007 | Experimental realization of monolithic diffractive broad-area polymeric waveguide dye lasers
Zeitner, U.D.; Büttner, A. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2007 | Fly's eye condenser based on chirped microlens arrays
Wippermann, F.; Zeitner, U.D.; Dannberg, P.; Sinzinger, S. | Konferenzbeitrag |
| 2007 | Inscription of fiber Bragg gratings with femtosecond pulses using a phase mask scanning technique
Thomas, J.; Wikszak, E.; Clausnitzer, T.; Fuchs, U.; Zeitner, U.D.; Nolte, S.; Tünnermann, A. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2007 | Laser lithographic fabrication and characterization of a spherical artificial compound eye
Radtke, D.; Duparre, J.; Zeitner, U.D.; Tünnermann, A. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2007 | Laser-lithography on non-planar surfaces
Radtke, D.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2006 | Advanced lithography for micro-optics
Zeitner, U.D.; Kley, E.-B. | Konferenzbeitrag |
| 2006 | Fabrication technologies for chirped refractive microlens arrays
Wippermann, F.; Radtke, D.; Zeitner, U.D.; Duparre, J.; Tünnermann, A.; Amberg, M.; Sinzinger, S.; Reinhardt, C.; Ovsianikov, A.; Chichkov, B.N. | Konferenzbeitrag |
| 2006 | Laserresonator mit oberflaechenstrukturierten Endspiegeln und Verfahren zu ihrer Herstellung
Buettner, A.; Zeitner, U.D. | Patent |
| 2006 | Ultraschallsonde und Verfahren zur optischen Detektion von Ultraschallwellen
Zeitner, U.D.; Schets, S.I.; Sobrino, E.V. | Patent |
| 2005 | Beleuchtungsmodul zur Farbbildanzeige
Leitel, A.; Waldhaeusl, R.; Schreiber, P.; Zeitner, U.D. | Patent |
| 2005 | Design considerations for high-brightness diffractive broad area lasers
Büttner, A.; Zeitner, U.D.; Kowarschik, R. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2005 | Halterung fuer optische Elemente
Damm, C.; Peschel, T.; Zeitner, U.D.; Feigl, T.; Banse, H. | Patent |
| 2005 | High-brightness fiber-coupling schemes for diode laser bars
Schreiber, P; Höfer, B.; Dannberg, P.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2005 | Laserlithografie für Mikrooptik auf gekrümmten Oberflächen
Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2005 | On-axis diffractive elements with improved signal quality in the presence of fabrication errors and wavelength tolerances
Zeitner, U.D.; Dannberg, P. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2005 | Optical microstructures on non-planar surfaces
Zeitner, U.D.; Gräßler, C. | Konferenzbeitrag |
| 2005 | Vorrichtung zur homogenen mehrfarbigen Beleuchtung einer Flaeche
Troellsch, A.; Zeitner, U.D.; Schreiber, P.; Waldhaeusl, R. | Patent |
| 2004 | Basics for fast and false-color-free birefringence measurements
Kaufmann, S.; Zeitner, U.D.; Schache, H.; Kley, E.-B. | Konferenzbeitrag |
| 2004 | Design and experimental realisation of monolithic high-brightness diffractive broad area lasers
Büttner, A.; Kowarschik, R.; Schelle, D.; Kley, E.-B.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2004 | Fiber-coupling of high-brightness laser diode bars
Schreiber, P.; Höfer, B.; Dannberg, P.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2004 | Laser-lithography for micro-optics on curved surfaces
Zeitner, U.D.; Gräßler, C. | Konferenzbeitrag |
| 2004 | LED-based projection displays with micro-structured optical elements
Leitel, A.; Tröllsch, A.; Waldhäusl, R.; Schreiber, P.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2004 | Das Mehrfarben-Senarmont-Verfahren in der Polarisationsmikroskopie
Zeitner, U.D.; Kaufmann, S. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2004 | Modeling of free-space microoptics
Zeitner, U.D.; Schreiber, P.; Karthe, W. | Konferenzbeitrag |
| 2004 | Recent advances in micro-optical systems
Bräuer, A.; Dannberg, P.; Schreiber, P.; Zeitner, U.D.; Kudaev, S.; Duparré, J. | Konferenzbeitrag |
| 2004 | Schnelle Messungen mit dem Mehrfarben-Senarmont-Verfahren in der Polarisationsmikroskopie
Zeitner, U.D.; Kaufmann, S. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2003 | Intracavity beamshaping in waveguide lasers
Büttner, A.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2003 | Laser-mode engineering by generalized resonator concepts
Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2003 | Mikrooptisches Sensorsystem zur Bestimmung der Doppelbrechung von Textilfasern
Zeitner, U.D.; Kaufmann, S.; Kley, E.-B. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2003 | Polarizing metal stripe gratings for a micro-optical polarimeter
Clausnitzer, I.; Fuchs, H.-J.; Kley, E.-B.; Tünnermann, A.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2003 | Short-periodic measuring of great retardations with a modified Senarmont-method
Kaufmann, S.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2003 | Verfahren und Vorrichtung zum Messen von Translationsbewegungen zwischen einer Oberflaeche und einer Messvorrichtung
Steegmueller, U.; Brunner, H.; Schreiber, P.; Zeitner, U.D.; Dannberg, P.; Braeuer, A. | Patent |
| 2002 | Calculation of the average lenslet shape and aberrations of microlens arrays from their far-field intensity distribution
Büttner, A.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2002 | Design and analysis of a micro-optical speckle displacement sensor
Schreiber, P.; Zeitner, U.D. | Konferenzbeitrag |
| 2002 | Photonen in Bestform - Strahlformung mit refraktiven mikrooptischen Elementen
Bräuer, A.; Zeitner, U.D.; Schreiber, P.; Dannberg, P.; Büttner, A. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2002 | Wave optical analysis of light-emitting diode beam shaping using microlens arrays
Büttner, A.; Zeitner, U.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2001 | Design of hard-edged unstable laser resonators with user defined mode shape
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F. | Konferenzbeitrag |
| 2001 | Design of unstable laser resonators with userdefined mode shape
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2001 | Double-sided hybrid microoptical elements combining functions of multistage optical systems
Zeitner, U.D.; Dannberg, P. | Konferenzbeitrag |
| 2001 | Mikrooptische Elemente, Funktionen und lithographische Herstellungstechnologien
Kley, E.-B.; Tünnermann, A.; Zeitner, U.D.; Karthe, W. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2000 | Consideration on the use of design freedoms for resonator originated beam shaping
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F. | Konferenzbeitrag |
| 2000 | External design freedom for optimalization of resonator originated beam shaping
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F.; Zellmer, H. | Zeitschriftenaufsatz |
| 1999 | Comparison of resonator-originated and external beam shaping
Zeitner, U.D.; Aagedal, H.; Wyrowski, F. | Zeitschriftenaufsatz |
| 1999 | Fabrication and properties of refractive micro-optical beam-shaping elements
Kley, E.-B.; Wittig, L.-C.; Cumme, M.; Zeitner, U.D.; Dannberg, P. | Konferenzbeitrag |
| 1999 | High modal discrimination for laser resonators with Gaussian output beam
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F. | Zeitschriftenaufsatz |
| 1999 | Polarization multiplexing of diffractive elements with metal-stripe grating pixels
Zeitner, U.D.; Schnabel, B.; Kley, E.-B.; Wyrowski, F. | Zeitschriftenaufsatz |