Fraunhofer-Gesellschaft

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2018Diffuse scattering due to stochastic disturbances of 1D-gratings on the example of line edge roughness
Heusinger, M.; Michaelis, D.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2018Diffuse scattering of lamellar optical gratings due to line edge roughness
Heusinger, M.; Banasch, M.; Michaelis, D.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2018Etendue conserving light shaping using microlens arrays with irregular lenslets
Li, C.; Schreiber, P.; Michaelis, D.; Wächter, C.; Fischer, S.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2017175 nm period grating fabricated by i-line proximity mask-aligner lithography
Bourgin, Y.; Voigt, D.; Käsebier, T.; Siefke, T.; Kley, E.-B.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2017Comparison of hyperspectral imaging spectrometer designs and the improvement of system performance with freeform surfaces
Liu, C.; Straif, C.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D.; Gross, H.
Zeitschriftenaufsatz
2017Development of the flight models for the Sentinel-4/UVN NIR-grating unit
Zeitner, U.D.; Kamm, A.; Benkenstein, T.; Flügel-Paul, T.; Leibeling, G.
Konferenzbeitrag
2017Large area fabrication technologies for advanced photonic micro- and nano-structures
Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2017Light scattering characterization of optical components for space applications
Hauptvogel, M.; Trost, M.; Costille, A.; Penka, D.; Zeitner, U.D.; Schröder, S.; Duparré, A.
Konferenzbeitrag
2017Mask aligner lithography using laser illumination for versatile pattern generation
Weichelt, T.; Bourgin, Y.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2017Rowland ghost suppression in high efficiency spectrometer gratings fabricated by e-beam lithography
Heusinger, M.; Banasch, M.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2016Advanced photomask fabrication by e-beam lithography for mask aligner applications
Weichelt, T.; Bourgin, Y.; Banasch, M.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2016Alternative high-resolution lithographic technologies for optical applications
Zeitner, U.D.; Weichelt, T.; Bourgin, Y.; Kinder, R.
Konferenzbeitrag
2016High dynamic grayscale lithography with an LED-based micro-image stepper
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.D.; Leitel, R.; Stumpf, M.; Schleicher, P.; Bräuer, A.; Tünnermann, A.
Konferenzbeitrag
2016Investigation and optimization of Rowland ghosts in high efficiency spectrometer gratings fabricated by e-beam lithography
Heusinger, M.; Banasch, M.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2016Large area gold coated nano-needles fabricated by proximity mask aligner lithography for plasmonic AR-structures
Bourgin, Y.; Michaelis, D.; Käsebier, T.; Dannberg, P.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2016New grating concepts in the NIR and SWIR spectral band for high resolution earth-observation spectrometers
Flügel-Paul, T.; Kalkowski, G.; Benkenstein, T.; Harzendorf, T.; Matthes, A.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2016Optical design and tolerancing of a hyperspectral imaging spectrometer
Liu, C.; Straif, C.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D.; Gross, H.
Konferenzbeitrag
2016Periodic sub-100nm structures fabricated by proximity i-line mask-aligner lithography (and self-aligned double patterning)
Bourgin, Y.; Voigt, D.; Käsebier, T.; Kley, E.-B.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2016Photomask displacement technology for continuous profile generation by mask aligner lithography
Weichelt, T.; Kinder, R.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2016Temporally-stable active precision mount for large optics
Reinlein, C.; Damm, C.; Lange, N.; Kamm, A.; Mohaupt, M.; Brady, A.; Goy, M.; Leonhard, N.; Eberhardt, R.; Zeitner, U.D.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2015Direct write grayscale lithography for arbitrary shaped micro-optical surfaces
Eckstein, H.-C.; Stumpf, M.; Schleicher, P.; Kleinle, S.; Matthes, A.; Zeitner, U.D.; Brauer, A.
Konferenzbeitrag
2015Fabrication of metal mirror modules for snap-together VIS telescopes
Beier, M.; Hartung, J.; Kinast, J.; Gebhardt, A.; Burmeister, F.; Zeitner, U.D.; Risse, S.; Eberhardt, R.; Tünnermann, A.
Konferenzbeitrag
2015Measuring position and figure deviation of freeform mirrors with computer generated holograms
Beier, M.; Stumpf, D.; Zeitner, U.D.; Gebhardt, A.; Hartung, J.; Risse, S.; Eberhardt, R.; Gross, H.; Tünnermann, A.
Konferenzbeitrag
2014Application of rigorously optimized phase masks for the fabrication of binary and blazed gratings with diffractive proximity lithography
Stuerzebecher, L.; Fuchs, F.; Harzendorf, T.; Meyer, S.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2014Extending standard mask lithography exposure technique to spherical surfaces
Stumpf, D.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2014Mode shaping for enhanced brightness in broad area lasers using monolithically integrated microoptical structures
Eckstein, H.-C.; Stumpf, M.; Zeitner, U.D.; Lauer, C.; Bachmann, A.; Furitsch, M.
Konferenzbeitrag
2014Multi-stencil character projection e-beam lithography: A fast and flexible way for high quality optical metamaterials
Huebner, U.; Falkner, M.; Zeitner, U.D.; Banasch, M.; Dietrich, K.; Kley, E.-B.
Konferenzbeitrag
2014Resolution enhancement for advanced mask aligner lithography using phase-shifting photomasks
Weichelt, T.; Vogler, U.; Stuerzebecher, L.; Voelkel, R.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2012Advanced mask aligner lithography (AMALITH)
Völkel, R.; Vogler, U.; Bramati, A.; Weichelt, T.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.D.; Motzek, K.; Erdmann, A.; Hornung, M.; Zoberbier, R.
Konferenzbeitrag
2012Micromachined array-type mirau interferometer for MEMS metrology
Gorecki, C.; Bargiel, S.; Albero, J.; Passilly, N.; Kujawinska, M.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2012Wafer scale fabrication of submicron chessboard gratings using phase masks in proximity lithography
Stürzebecher, Lorenz; Harzendorf, T.; Fuchs, F.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2011Control of slow axis mode behaviour with waveguide phase structures in semiconductor broad-area lasers
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.D.; Ahmed, K.; Schmid, W.; Strauss, U.
Konferenzbeitrag
2011Effects of metallic nanoparticle arrays in Si solar cell structures
Benkenstein, T.; Flämmich, M.; Harzendorf, T.; Käsebier, T.; Michaelis, D.; Oliva, M.; Wächter, C.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2011Electrical instability of a-Si:H TFTs fabricated by maskless laser-write lithography on a spherical surface
Yoo, G.; Radtke, D.; Baek, G.; Zeitner, U.D.; Kanicki, J.
Zeitschriftenaufsatz
2011Improving the brightness of a multi-kilowatt single thin-disk laser by an aspherical phase front correction
Blázquez-Sánchez, D.; Weichelt, B.; Austerschulte, A.; Voss, A.; Graf, T.; Killi, A.; Eckstein, H.-C.; Stumpf, M.; Matthes, A.L.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2011Mask aligner process enhancement by spatial filtering
Vogler, U.; Bich, A.; Voelkel, R.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.D.; Hornung, M.
Konferenzbeitrag
2011Micromachined array-type Mirau interferometer for parallel inspection of MEMS
Albero, J.; Bargiel, S.; Passilly, N.; Dannberg, P.; Stumpf, M.; Zeitner, U.D.; Rousselot, C.; Gastinger, K.; Gorecki, C.
Zeitschriftenaufsatz
2011Multilevel blazed gratings in resonance domain: An alternative to the classical fabrication approach
Oliva, M.; Harzendorf, T.; Michaelis, D.; Zeitner, U.D.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2010Advanced mask aligner lithography: Fabrication of periodic patterns using pinhole array mask and Talbot effect
Stürzebecher, L.; Harzendorf, T.; Vogler, U.; Zeitner, U.D.; Völkel, R.
Zeitschriftenaufsatz
2010Advanced mask aligner lithography: New illumination system
Voelkel, R.; Vogler, U.; Bich, A.; Pernet, P.; Weible, K.J.; Hornung, M.; Zoberbier, R.; Cullmann, E.; Stuerzebecher, L.; Harzendorf, T.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2010Highly efficient three-level blazed grating in the resonance domain
Oliva, M.; Michaelis, D.; Benkenstein, T.; Dunkel, J.; Harzendorf, T.; Matthes, A.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2010Modeling and optimization of single-pass laser amplifiers for high-repetition-rate laser pulses
Ozawa, A.; Udem, T.; Zeitner, U.D.; Hänsch, T.W.; Hommelhoff, P.
Zeitschriftenaufsatz
2010Photonic submicron-structures. Effective media for high-performance applications
Zeitner, U.D.; Kley, E.-B.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2010Smart technology for blazed multilevel gratings in resonance domain
Oliva, M.; Benkenstein, T.; Dunkel, J.; Harzendorf, T.; Matthes, A.; Michaelis, D.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2009AFM characterization of large area micro-optical elements
Oliva, M.; Benkenstein, T.; Flemming, M.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2009Control of slow axis mode behavior with waveguide phase structures in semiconductor broad-area lasers
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.D.; Schmid, W.; Strauss, U.
Konferenzbeitrag
2009Large-scale application of binary subwavelength structures
Kley, E.-B.; Freese, W.; Kämpfe, T.; Tünnermann, A.; Zeitner, U.D.; Michaelis, D.; Erdmann, M.
Konferenzbeitrag
2009Measuring the spatiotemporal electric field of tightly focused ultrashort pulses with submicron spatial resolution
Bowlan, P.; Fuchs, U.; Trebino, R.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2008Diffractive unstable VECSEL-resonator with a Gaussian shaped outcoupled beam
Eckstein, C.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2008Diffraktives Element mit hoher Wellenfrontebenheit
Kley, E.; Zeitner, U.D.
Patent
2008Experimental realization of a diffractive unstable resonator with Gaussian outcoupled beam using a VECSEL amplifier
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2008The making of a computer-generated hologram
Zeitner, U.D.; Banasch, M.; Kley, E.B.
Zeitschriftenaufsatz
2008Measuring the spatio-temporal electric field of tightly focused ultrashort pulses
Bowlan, P.; Fuchs, U.; Trebino, R.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2008Measuring the spatiotemporal electric field of tightly focused ultrashort pulses with sub-micron spatial resolution
Bowlan, P.; Fuchs, U.; Gabolde, P.; Trebino, R.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2008Mikrostrukturierte Optik für die raum-zeitliche Kontrolle von Licht
Zeitner, U.D.
Habilitationsschrift
2008Performance and lifetime of EUV source collectors measured with a full size EUV collector reflectometer
Hinze, U.; Chichkov, B.N.; Feigl, T.; Zeitner, U.D.; Damm, C.; Bolshukhin, D.; Kleinschmidt, J.; Schriever, G.; Schürmann, M.C.
Konferenzbeitrag
2008Smatiehs - Smart inspection system for high speed and multifunctional testing of Mems an Moems
Gastinger, K.; Kujawinska, M.; Lovhaugen, O.; Beer, S.; Gorecki, C.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2008Stochastic tandem microlens arrays for beam homogenization
Wippermann, F.C.; Radtke, D.; Dannberg, P.; Zeitner, U.D.; Bräuer, A.
Konferenzbeitrag
2008Transverse mode selection with waveguide phase structures in semiconductor broad-area lasers
Zeitner, U.D.; Eckstein, C.; Schmid, W.
Konferenzbeitrag
2007Experimental realization of monolithic diffractive broad-area polymeric waveguide dye lasers
Zeitner, U.D.; Büttner, A.
Zeitschriftenaufsatz
2007Fly's eye condenser based on chirped microlens arrays
Wippermann, F.; Zeitner, U.D.; Dannberg, P.; Sinzinger, S.
Konferenzbeitrag
2007Inscription of fiber Bragg gratings with femtosecond pulses using a phase mask scanning technique
Thomas, J.; Wikszak, E.; Clausnitzer, T.; Fuchs, U.; Zeitner, U.D.; Nolte, S.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2007Laser lithographic fabrication and characterization of a spherical artificial compound eye
Radtke, D.; Duparre, J.; Zeitner, U.D.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2007Laser-lithography on non-planar surfaces
Radtke, D.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2006Advanced lithography for micro-optics
Zeitner, U.D.; Kley, E.-B.
Konferenzbeitrag
2006Fabrication technologies for chirped refractive microlens arrays
Wippermann, F.; Radtke, D.; Zeitner, U.D.; Duparre, J.; Tünnermann, A.; Amberg, M.; Sinzinger, S.; Reinhardt, C.; Ovsianikov, A.; Chichkov, B.N.
Konferenzbeitrag
2006Laserresonator mit oberflaechenstrukturierten Endspiegeln und Verfahren zu ihrer Herstellung
Buettner, A.; Zeitner, U.D.
Patent
2006Ultraschallsonde und Verfahren zur optischen Detektion von Ultraschallwellen
Zeitner, U.D.; Schets, S.I.; Sobrino, E.V.
Patent
2005Beleuchtungsmodul zur Farbbildanzeige
Leitel, A.; Waldhaeusl, R.; Schreiber, P.; Zeitner, U.D.
Patent
2005Design considerations for high-brightness diffractive broad area lasers
Büttner, A.; Zeitner, U.D.; Kowarschik, R.
Zeitschriftenaufsatz
2005Halterung fuer optische Elemente
Damm, C.; Peschel, T.; Zeitner, U.D.; Feigl, T.; Banse, H.
Patent
2005High-brightness fiber-coupling schemes for diode laser bars
Schreiber, P; Höfer, B.; Dannberg, P.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2005Laserlithografie für Mikrooptik auf gekrümmten Oberflächen
Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2005On-axis diffractive elements with improved signal quality in the presence of fabrication errors and wavelength tolerances
Zeitner, U.D.; Dannberg, P.
Zeitschriftenaufsatz
2005Optical microstructures on non-planar surfaces
Zeitner, U.D.; Gräßler, C.
Konferenzbeitrag
2005Vorrichtung zur homogenen mehrfarbigen Beleuchtung einer Flaeche
Troellsch, A.; Zeitner, U.D.; Schreiber, P.; Waldhaeusl, R.
Patent
2004Basics for fast and false-color-free birefringence measurements
Kaufmann, S.; Zeitner, U.D.; Schache, H.; Kley, E.-B.
Konferenzbeitrag
2004Design and experimental realisation of monolithic high-brightness diffractive broad area lasers
Büttner, A.; Kowarschik, R.; Schelle, D.; Kley, E.-B.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2004Fiber-coupling of high-brightness laser diode bars
Schreiber, P.; Höfer, B.; Dannberg, P.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2004Laser-lithography for micro-optics on curved surfaces
Zeitner, U.D.; Gräßler, C.
Konferenzbeitrag
2004LED-based projection displays with micro-structured optical elements
Leitel, A.; Tröllsch, A.; Waldhäusl, R.; Schreiber, P.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2004Das Mehrfarben-Senarmont-Verfahren in der Polarisationsmikroskopie
Zeitner, U.D.; Kaufmann, S.
Zeitschriftenaufsatz
2004Modeling of free-space microoptics
Zeitner, U.D.; Schreiber, P.; Karthe, W.
Konferenzbeitrag
2004Recent advances in micro-optical systems
Bräuer, A.; Dannberg, P.; Schreiber, P.; Zeitner, U.D.; Kudaev, S.; Duparré, J.
Konferenzbeitrag
2004Schnelle Messungen mit dem Mehrfarben-Senarmont-Verfahren in der Polarisationsmikroskopie
Zeitner, U.D.; Kaufmann, S.
Zeitschriftenaufsatz
2003Intracavity beamshaping in waveguide lasers
Büttner, A.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2003Laser-mode engineering by generalized resonator concepts
Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2003Mikrooptisches Sensorsystem zur Bestimmung der Doppelbrechung von Textilfasern
Zeitner, U.D.; Kaufmann, S.; Kley, E.-B.
Zeitschriftenaufsatz
2003Polarizing metal stripe gratings for a micro-optical polarimeter
Clausnitzer, I.; Fuchs, H.-J.; Kley, E.-B.; Tünnermann, A.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2003Short-periodic measuring of great retardations with a modified Senarmont-method
Kaufmann, S.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2003Verfahren und Vorrichtung zum Messen von Translationsbewegungen zwischen einer Oberflaeche und einer Messvorrichtung
Steegmueller, U.; Brunner, H.; Schreiber, P.; Zeitner, U.D.; Dannberg, P.; Braeuer, A.
Patent
2002Calculation of the average lenslet shape and aberrations of microlens arrays from their far-field intensity distribution
Büttner, A.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2002Design and analysis of a micro-optical speckle displacement sensor
Schreiber, P.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2002Photonen in Bestform - Strahlformung mit refraktiven mikrooptischen Elementen
Bräuer, A.; Zeitner, U.D.; Schreiber, P.; Dannberg, P.; Büttner, A.
Zeitschriftenaufsatz
2002Wave optical analysis of light-emitting diode beam shaping using microlens arrays
Büttner, A.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2001Design of hard-edged unstable laser resonators with user defined mode shape
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F.
Konferenzbeitrag
2001Design of unstable laser resonators with userdefined mode shape
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F.
Zeitschriftenaufsatz
2001Double-sided hybrid microoptical elements combining functions of multistage optical systems
Zeitner, U.D.; Dannberg, P.
Konferenzbeitrag
2001Mikrooptische Elemente, Funktionen und lithographische Herstellungstechnologien
Kley, E.-B.; Tünnermann, A.; Zeitner, U.D.; Karthe, W.
Zeitschriftenaufsatz
2000Consideration on the use of design freedoms for resonator originated beam shaping
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F.
Konferenzbeitrag
2000External design freedom for optimalization of resonator originated beam shaping
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F.; Zellmer, H.
Zeitschriftenaufsatz
1999Comparison of resonator-originated and external beam shaping
Zeitner, U.D.; Aagedal, H.; Wyrowski, F.
Zeitschriftenaufsatz
1999Fabrication and properties of refractive micro-optical beam-shaping elements
Kley, E.-B.; Wittig, L.-C.; Cumme, M.; Zeitner, U.D.; Dannberg, P.
Konferenzbeitrag
1999High modal discrimination for laser resonators with Gaussian output beam
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F.
Zeitschriftenaufsatz
1999Polarization multiplexing of diffractive elements with metal-stripe grating pixels
Zeitner, U.D.; Schnabel, B.; Kley, E.-B.; Wyrowski, F.
Zeitschriftenaufsatz