Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2019Metasurface-based patterned wave plates for VIS applications
Stock, C.; Siefke, T.; Zeitner, U.
Zeitschriftenaufsatz
2019Mid-infrared long-pass filter for high-power applications based on grating diffraction
Gerz, D.; Schweinberger, W.; Butler, T.P.; Siefke, T.; Heusinger, M.; Amotchkina, T.; Pervak, V.; Zeitner, U.; Pupeza, I.
Zeitschriftenaufsatz
2019Table-top high-energy 7 μm OPCPA and 260 mJ Ho:YLF pump laser
Elu, U.; Steinle, T.; Sanchez, D.; Maidment, L.; Zawilski, K.; Schunemann, P.; Zeitner, U.D.; Simon-Boisson, C.; Biegert, J.
Zeitschriftenaufsatz
2019Watt-scale 50-MHz source of single-cycle waveform-stable pulses in the molecular fingerprint region
Butler, T.P.; Gerz, D.; Hofer, C.; Xu, J.; Gaida, C.; Heuermann, T.; Gebhardt, M.; Vamos, L.; Schweinberger, W.; Gessner, J.A.; Siefke, T.; Heusinger, M.; Zeitner, U.; Apolonski, A.; Karpowicz, N.; Limpert, J.; Krausz, F.; Pupeza, I.
Zeitschriftenaufsatz
2018Diffuse scattering due to stochastic disturbances of 1D-gratings on the example of line edge roughness
Heusinger, M.; Michaelis, D.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2018Diffuse scattering of lamellar optical gratings due to line edge roughness
Heusinger, M.; Banasch, M.; Michaelis, D.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2018Diffuser concepts for in-situ wavefront measurements of EUV projection optics
Kerkhof, M. van de; Voogd, R.J.; Schasfoort, A.; Westerhuis, E.; Engelen, W.; Dikkers, M.; Chowdhury, Y.; Kriese, M.; Bäumer, S.; Zeitner, U.; Feigl, T.
Konferenzbeitrag
2018Etendue conserving light shaping using microlens arrays with irregular lenslets
Li, C.; Schreiber, P.; Michaelis, D.; Wächter, C.; Fischer, S.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2018Optische Anordnung zur spektralen Zerlegung von Licht
Flügel-Paul, Thomas; Harzendorf, Torsten; Michaelis, Dirk; Zeitner, Uwe Detlef
Patent
2018Surface relief gratings manufactured by lithographic means being a candidate for VLT MOONS instrument’s main dispersers
Harzendorf, T.; Michaelis, D.; Flügel-Paul, T.; Bianco, A.; Oliva, E.; Zeitner, U.
Konferenzbeitrag
2017175 nm period grating fabricated by i-line proximity mask-aligner lithography
Bourgin, Y.; Voigt, D.; Käsebier, T.; Siefke, T.; Kley, E.-B.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2017Comparison of hyperspectral imaging spectrometer designs and the improvement of system performance with freeform surfaces
Liu, C.; Straif, C.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D.; Gross, H.
Zeitschriftenaufsatz
2017Development of the flight models for the Sentinel-4/UVN NIR-grating unit
Zeitner, U.D.; Kamm, A.; Benkenstein, T.; Flügel-Paul, T.; Leibeling, G.
Konferenzbeitrag
2017Fused silica GRISMs manufactured by hydrophilic direct bonding at moderate heating
Kalkowski, G.; Grabowski, K.; Harnisch, G.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.; Risse, S.
Zeitschriftenaufsatz
2017Grism manufacturing by low temperature mineral bonding
Kalkowski, G.; Grabowski, K.; Harnisch, G.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.; Risse, S.
Konferenzbeitrag
2017Large area fabrication technologies for advanced photonic micro- and nano-structures
Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2017Light scattering characterization of optical components for space applications
Hauptvogel, M.; Trost, M.; Costille, A.; Penka, D.; Zeitner, U.D.; Schröder, S.; Duparré, A.
Konferenzbeitrag
2017Mask aligner lithography using laser illumination for versatile pattern generation
Weichelt, T.; Bourgin, Y.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2017Rowland ghost suppression in high efficiency spectrometer gratings fabricated by e-beam lithography
Heusinger, M.; Banasch, M.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2017Slit manufacturing and integration for the Sentinel-4 NIR and UV-VIS spectrometers
Mohaupt, M.; Zeitner, U.; Harnisch, G.
Konferenzbeitrag
2016Advanced photomask fabrication by e-beam lithography for mask aligner applications
Weichelt, T.; Bourgin, Y.; Banasch, M.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2016Alternative high-resolution lithographic technologies for optical applications
Zeitner, U.D.; Weichelt, T.; Bourgin, Y.; Kinder, R.
Konferenzbeitrag
2016High dynamic grayscale lithography with an LED-based micro-image stepper
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.D.; Leitel, R.; Stumpf, M.; Schleicher, P.; Bräuer, A.; Tünnermann, A.
Konferenzbeitrag
2016Intensity and phase fields behind phase-shifting masks studied with high-resolution interference microscopy
Puthankovilakam, K.; Scharf, T.; Kim, M.S.; Naqavi, A.; Herzig, H.P.; Weichelt, T.; Zeitner, U.; Vogler, U.; Voelkel, R.
Zeitschriftenaufsatz
2016Investigation and optimization of Rowland ghosts in high efficiency spectrometer gratings fabricated by e-beam lithography
Heusinger, M.; Banasch, M.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2016Large area gold coated nano-needles fabricated by proximity mask aligner lithography for plasmonic AR-structures
Bourgin, Y.; Michaelis, D.; Käsebier, T.; Dannberg, P.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2016Large-scale segmentation errors in optical gratings and their unique effect onto optical scattering spectra
Heusinger, M.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.-D.
Zeitschriftenaufsatz
2016New grating concepts in the NIR and SWIR spectral band for high resolution earth-observation spectrometers
Flügel-Paul, T.; Kalkowski, G.; Benkenstein, T.; Harzendorf, T.; Matthes, A.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2016Optical design and tolerancing of a hyperspectral imaging spectrometer
Liu, C.; Straif, C.; Flügel-Paul, T.; Zeitner, U.D.; Gross, H.
Konferenzbeitrag
2016Periodic sub-100nm structures fabricated by proximity i-line mask-aligner lithography (and self-aligned double patterning)
Bourgin, Y.; Voigt, D.; Käsebier, T.; Kley, E.-B.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2016Photomask displacement technology for continuous profile generation by mask aligner lithography
Weichelt, T.; Kinder, R.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2016Temporally-stable active precision mount for large optics
Reinlein, C.; Damm, C.; Lange, N.; Kamm, A.; Mohaupt, M.; Brady, A.; Goy, M.; Leonhard, N.; Eberhardt, R.; Zeitner, U.D.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2016Verfahren und Vorrichtung zur interferometrischen Prüfung
Beier, Matthias; Stumpf, Daniela; Gebhardt, Andreas; Risse, Stefan; Zeitner, Uwe Detlef
Patent
2015Development, fabrication, and testing of an anamorphic imaging snap-together freeform telescope
Beier, Matthias; Hartung, Johannes; Peschel, Thomas; Damm, Christoph; Gebhardt, Andreas; Scheiding, Sebastian; Stumpf, Daniela; Zeitner, Uwe D.; Risse, Stefan; Eberhardt, Ramona; Tünnermann, Andreas
Zeitschriftenaufsatz
2015Direct write grayscale lithography for arbitrary shaped micro-optical surfaces
Eckstein, H.-C.; Stumpf, M.; Schleicher, P.; Kleinle, S.; Matthes, A.; Zeitner, U.D.; Brauer, A.
Konferenzbeitrag
2015Double-sided diffractive photo-mask for sub-500nm resolution proximity i-line mask-aligner lithography
Bourgin, Yannick; Siefke, Thomas; Käsebier, Thomas; Kley, Ernst-Bernhard; Zeitner, Uwe D.
Konferenzbeitrag
2015Double-sided structured mask for sub-micron resolution proximity i-line mask-aligner lithography
Bourgin, Yannick; Siefke, Thomas; Käsebier, Thomas; Genevee, Pascal; Szeghalmi, Adriana; Kley, Ernst-Bernhard; Zeitner, Uwe D.
Zeitschriftenaufsatz
2015Fabrication of metal mirror modules for snap-together VIS telescopes
Beier, M.; Hartung, J.; Kinast, J.; Gebhardt, A.; Burmeister, F.; Zeitner, U.D.; Risse, S.; Eberhardt, R.; Tünnermann, A.
Konferenzbeitrag
2015Half-wave phase retarder working in transmission around 630nm realized by atomic layer deposition of sub-wavelength gratings
Paul, Thomas; Matthes, Andre; Harzendorf, Torsten; Ratzsch, Stephan; Zeitner, Uwe D.
Zeitschriftenaufsatz
2015High-resolution proximity lithography for nano-optical components
Stürzebecher, Lorenz; Fuchs, Frank; Zeitner, Uwe Detlef; Tünnermann, Andreas
Zeitschriftenaufsatz
2015Intensity and phase fields behind Phase Shifting Masks studied with High Resolution Interference Microscopy
Puthankovilakam, K.; Scharf, T.; Herzig, H.P.; Weichelt, T.; Zeitner, U.; Vogler, U.; Voelkel, R.
Konferenzbeitrag
2015Low temperature GRISM direct bonding
Kalkowski, G.; Harnisch, G.; Grabowski, K.; Benkenstein, T.; Ehrhardt, S.; Zeitner, U.; Risse, S.
Konferenzbeitrag
2015Mask Aligner Lithography for TSV-Structures using a Double-Sided (structured) Photomask
Weichelt, Tina; Stuerzebecher, Lorenz; Zeitner, Uwe Detlef
Konferenzbeitrag
2015Measuring position and figure deviation of freeform mirrors with computer generated holograms
Beier, M.; Stumpf, D.; Zeitner, U.D.; Gebhardt, A.; Hartung, J.; Risse, S.; Eberhardt, R.; Gross, H.; Tünnermann, A.
Konferenzbeitrag
2015Numerical simulation and optimization of microstructured high brightness broad area laser diodes
Eckstein, Hans-Christoph; Zeitner, Uwe; Tünnermann, Andreas; Lauer, Christian; Strauß, U.
Konferenzbeitrag
2015Optimized lithography process for through-silicon vias-fabrication using a double-sided (structured) photomask for mask aligner lithography
Weichelt, Tina; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, Uwe D.
Zeitschriftenaufsatz
2015Sub-700fs pulses at 152 W average power from a Tm-doped fiber CPA system
Gaida, Christian; Stutzki, Fabian; Gebhardt, Martin; Jansen, Florian; Wienke, Andreas; Zeitner, Uwe D.; Fuchs, Frank; Jauregui, Cesar; Wandt, Dieter; Kracht, Dietmar; Limpert, Jens; Tünnermann, Andreas
Konferenzbeitrag
2015Sub-aperture EUV collector with dual-wavelength spectral purity filter
Feigl, Torsten; Perske, Marco; Pauer, Hagen; Fiedler, Tobias; Zeitner, Uwe; Leitel, Robert; Eckstein, Hans Christoph; Schleicher, Philipp; Schröder, Sven; Trost, Marcus; Risse, Stefan; Steinkopf, Ralf; Scholze, F.; Laubis, C.
Konferenzbeitrag
2014(Invited) Glass-Glass Direct Bonding
Kalkowski, Gerhard; Risse, Stefan; Zeitner, Uwe; Fuchs, Frank; Eberhardt, Ramona; Tünnermann, Andreas
Konferenzbeitrag
2014152 W average power Tm-doped fiber CPA system
Stutzki, F.; Gaida, C.; Gebhardt, M.; Jansen, F.; Wienke, A.; Zeitner, U.; Fuchs, F.; Jauregui, C.; Wandt, D.; Kracht, D.; Limpert, J.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2014250 nm period grating transferred by proximity i-line mask-aligner lithography
Bourgin, Yannick; Käsebier, Thomas; Zeitner, Uwe Detlef
Zeitschriftenaufsatz
2014Application of rigorously optimized phase masks for the fabrication of binary and blazed gratings with diffractive proximity lithography
Stuerzebecher, L.; Fuchs, F.; Harzendorf, T.; Meyer, S.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2014Efficient fabrication of complex nano-optical structures by E-beam lithography based on charakter projection
Zeitner, Uwe Detlef; Harzendorf, Torsten; Fuchs, Frank; Banasch, Michael; Schmidt, Holger; Kley, Ernst-Bernhard
Konferenzbeitrag
2014Extending standard mask lithography exposure technique to spherical surfaces
Stumpf, D.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2014Fast character projection electron beam lithography for diffractive optical elements
Harzendorf, Torsten; Fuchs, Frank; Banasch, Michael; Zeitner, Uwe Detlef
Konferenzbeitrag
2014High-refractive-index gratings for spectroscopic and laser applications
Zeitner, Uwe Detlef; Fuchs, Frank; Kley, Ernst-Bernhard; Tünnermann, Andreas
Konferenzbeitrag
2014Light scattering characterization of optical components – BRDF, BTDF and scatter losses
Schröder, Sven; Finck, Alexander von; Katsir, Dina; Zeitner, Uwe; Duparré, Angela
Konferenzbeitrag
2014Mode shaping for enhanced brightness in broad area lasers using monolithically integrated microoptical structures
Eckstein, H.-C.; Stumpf, M.; Zeitner, U.D.; Lauer, C.; Bachmann, A.; Furitsch, M.
Konferenzbeitrag
2014Multi-stencil character projection e-beam lithography: A fast and flexible way for high quality optical metamaterials
Huebner, U.; Falkner, M.; Zeitner, U.D.; Banasch, M.; Dietrich, K.; Kley, E.-B.
Konferenzbeitrag
2014Observation of the waveguide resonance in a periodically patterned high refractive index broadband antireflection coating
Stenzel, Olaf; Wilbrandt, Steffen; Chen, Xiaoying; Schlegel, Ralph; Coriand, Luisa; Duparré, Angela; Zeitner, Uwe; Benkenstein, Tino; Wächter, Christoph
Zeitschriftenaufsatz
2014Pulse compression grating fabrication by diffractive proximity photolithography
Stürzebecher, Lorenz; Fuchs, Frank; Harzendorf, Torsten; Zeitner, Uwe Detlef
Zeitschriftenaufsatz
2014Resolution enhancement for advanced mask aligner lithography using phase-shifting photomasks
Weichelt, T.; Vogler, U.; Stuerzebecher, L.; Voelkel, R.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2014Tm-doped fiber CPA system with 152 W average power and sub-700fs pulse duration
Gaida, Christian; Gebhardt, Martin; Stutzki, Fabian; Jansen, Florian; Wienke, Andreas; Zeitner, Uwe; Fuchs, Frank; Jauregui, Cesar; Wandt, Dieter; Kracht, Dietmar; Limpert, Jens; Tünnermann, Andreas
Konferenzbeitrag
2013Direct bonding for the encapsulation of transverse optical gratings
Kalkowski, G.; Benkenstein, T.; Rothhardt, C.; Fuchs, F.; Zeitner, U.
Zeitschriftenaufsatz
2013Freeform mirror fabrication and metrology using a high performance test CGH and advanced alignment features
Scheiding, Sebastian; Beier, Matthias; Zeitner, Uwe-Detlef; Risse, Stefan; Gebhardt, Andreas
Konferenzbeitrag
2013Highly efficient broadband blazed grating in resonance domain
Oliva, Maria; Michaelis, Dirk; Fuchs, Frank; Tünnermann, Andreas; Zeitner, Uwe Detlef
Zeitschriftenaufsatz
2013Mode shaping in semiconductor broad area lasers by monolithically integrated phase structures
Eckstein, Christoph; Zeitner, Uwe D.; Tünnermann, Andreas; Strauss, Uwe; Schmid, Wolfgang; Lauer, Christian
Zeitschriftenaufsatz
2013Modeling electro-optical characteristics of broad area semiconductor lasers based on a quasi-stationary multimode analysis
Eckstein, Christoph; Zeitner, Uwe D.
Zeitschriftenaufsatz
2013Structured Mo/Si multilayers for IR-suppression in laser-produced EUV light sources
Trost, Marcus; Schröder, Sven; Duparré, Angela; Risse, Stefan; Feigl, Torsten; Zeitner, Uwe D.; Tünnermann, Andreas
Zeitschriftenaufsatz
2012Advanced mask aligner lithography (AMALITH)
Völkel, R.; Vogler, U.; Bramati, A.; Weichelt, T.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.D.; Motzek, K.; Erdmann, A.; Hornung, M.; Zoberbier, R.
Konferenzbeitrag
2012Beugungsgitter und Verfahren zu dessen Herstellung
Fuchs, Frank; Zeitner, Uwe Detlef; Kley, E.-B.
Patent
2012Direct wafer bonding for encapsulation of fused silica optical gratings
Kalkowski, Gerhard; Zeitner, Uwe Detlef; Benkenstein, Tino; Fuchs, J. Hans-Jörg; Rothhardt, Carolin; Eberhardt, Ramona
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2012Enhanced e-beam pattern writing for nano-optics based on character projection
Kley, Ernst-Bernhard; Schmidt, Holger; Zeitner, Uwe; Banasch, Michael; Schnabel, Bernd
Konferenzbeitrag
2012High numerical aperture hybrid optics for two-photon polymerization
Burmeister, Frank; Zeitner, Uwe D.; Nolte, Stefan; Tünnermann, Andreas
Zeitschriftenaufsatz
2012High performance dielectric diffraction gratings for space applications
Zeitner, Uwe D.; Fuchs, Frank; Kley, Ernst-Bernhard
Konferenzbeitrag
2012High performance diffraction gratings made by e-beam lithography
Zeitner, Uwe D.; Oliva, Maria; Fuchs, Frank; Michaelis, Dirk; Benkenstein, Tino; Harzendorf, Torsten; Kley, Ernst-Bernhard
Zeitschriftenaufsatz
2012Hybrid optics for three-dimensional microstructuring of polymers via direct laser writing
Burmeister, Frank; Zeitner, Uwe D.; Nolte, Stefan; Tünnermann, Andreas
Konferenzbeitrag
2012Materials and technologies for fabrication of three-dimensional microstructures with sub-100 nm feature sizes by two-photon polymerization
Burmeister, Frank; Steenhusen, Sönke; Houbertz, Ruth; Zeitner, Uwe Detlef; Nolte, Stefan; Tünnermann, Andreas
Zeitschriftenaufsatz
2012Micromachined array-type mirau interferometer for MEMS metrology
Gorecki, C.; Bargiel, S.; Albero, J.; Passilly, N.; Kujawinska, M.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2012Novel gap alignment sensor for high-resolution proximity lithography
Harzendorf, Torsten; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, Uwe Detlef
Konferenzbeitrag
2012Pointwise process proximity function calibration - PPFexplorer application results
Krueger, M.; Banasch, M.; Galler, R.; Melzer, D.; Ramos, L.E.; Suelzle, M.; Weidenmueller, U.; Zeitner, U.
Konferenzbeitrag
2012Reflexionsbeugungsgitter und Verfahren zu dessen Herstellung
Fuchs, Frank; Zeitner, Uwe Detlef
Patent
2012Sub-micrometer pattern generation by diffractive mask-aligner lithography
Zeitner, Uwe D.; Stuerzebecher, Lorenz; Harzendorf, Torsten; Fuchs, Frank; Michaelis, Dirk
Konferenzbeitrag
2012Twyman-Green-type integrated laser interferometer array for parallel MEMS testing
Oliva, Maria; Michaelis, Dirk; Dannberg, Peter; Józwik, Michal; Lizewski, Kamil; Kujawiñska, Malgorzata; Zeitner, Uwe Detlef
Zeitschriftenaufsatz
2012Verfahren und Sensoreinheit zur Abstandsmessung in einer lithografischen Vorrichtung und lithographische Vorrichtung
Harzendorf, Torsten; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, U.; Vogler, U.; Völkel, R.
Patent
2012Verfahren und Vorrichtung zur Abstandsmessung mit einer diffraktiven Struktur
Harzendorf, Torsten; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, U.; Vogler, U.; Völkel, R.
Patent
2012Wafer scale fabrication of submicron chessboard gratings using phase masks in proximity lithography
Stürzebecher, Lorenz; Harzendorf, T.; Fuchs, F.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2012Waveguide grating radial polarizer for the photolithography of circularly symmetrical optical elements
Jourlin, Yves; Tonchev, Svetlen; Parriaux, Olivier; Sauvage-Vincent, Jean; Harzendorf, Torsten; Zeitner, Uwe D.
Zeitschriftenaufsatz
2011Control of slow axis mode behaviour with waveguide phase structures in semiconductor broad-area lasers
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.D.; Ahmed, K.; Schmid, W.; Strauss, U.
Konferenzbeitrag
2011Effects of metallic nanoparticle arrays in Si solar cell structures
Benkenstein, T.; Flämmich, M.; Harzendorf, T.; Käsebier, T.; Michaelis, D.; Oliva, M.; Wächter, C.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2011Electrical instability of a-Si:H TFTs fabricated by maskless laser-write lithography on a spherical surface
Yoo, G.; Radtke, D.; Baek, G.; Zeitner, U.D.; Kanicki, J.
Zeitschriftenaufsatz
2011Improving the brightness of a multi-kilowatt single thin-disk laser by an aspherical phase front correction
Blázquez-Sánchez, D.; Weichelt, B.; Austerschulte, A.; Voss, A.; Graf, T.; Killi, A.; Eckstein, H.-C.; Stumpf, M.; Matthes, A.L.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2011Mask aligner process enhancement by spatial filtering
Vogler, U.; Bich, A.; Voelkel, R.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.D.; Hornung, M.
Konferenzbeitrag
2011Micromachined array-type Mirau interferometer for MEMS metrology
Gorecki, C.; Bargiel, S.; Albero, J.; Passilly, N.; Rousselot, C.; Zeitner, U.; Gastinger, K.
Konferenzbeitrag
2011Micromachined array-type Mirau interferometer for parallel inspection of MEMS
Albero, J.; Bargiel, S.; Passilly, N.; Dannberg, P.; Stumpf, M.; Zeitner, U.D.; Rousselot, C.; Gastinger, K.; Gorecki, C.
Zeitschriftenaufsatz
2011Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization)
Vogler, U.; Bramati, A.; Völkel, R.; Hornung, M.; Zoberbier, R.; Motzek, M.; Erdmann, A.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2011Multilevel blazed gratings in resonance domain: An alternative to the classical fabrication approach
Oliva, M.; Harzendorf, T.; Michaelis, D.; Zeitner, U.D.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2011Nano-optical gratings for integrated laser interferometer arrays
Michaelis, D.; Oliva, M.; Benkenstein, T.; Harzendorf, T.; Matthes, A.; Zeitner, U.
Konferenzbeitrag
2011Parallel approach to MEMS and micro-optics interferometric testing
Kujawiska, M.; Beer, S.; Gastinger, K.; Gorecki, C.; Haugholt, K.H.; Józwik, M.; Lambelet, P.; Paris, R.; Styk, A.; Zeitner, U.
Konferenzbeitrag
2010Advanced mask aligner lithography: Fabrication of periodic patterns using pinhole array mask and Talbot effect
Stürzebecher, L.; Harzendorf, T.; Vogler, U.; Zeitner, U.D.; Völkel, R.
Zeitschriftenaufsatz
2010Advanced mask aligner lithography: New illumination system
Voelkel, R.; Vogler, U.; Bich, A.; Pernet, P.; Weible, K.J.; Hornung, M.; Zoberbier, R.; Cullmann, E.; Stuerzebecher, L.; Harzendorf, T.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2010Advances in lithography on non-planar surfaces
Radtke, D.; Stumpf, M.; Zeitner, U.
Konferenzbeitrag
2010Design, technology, and signal processing for DOE-based microinterferometer array applied in new generation M(O)EMS test equipment
Kujawinska, M.; Józwik, M.; Styk, A.; Zeitner, U.; Røyset, A.; Beer, S.; Moosburger, R.; Gorecki, C.; Gastinger, K.
Konferenzbeitrag
2010Development of a large blazed transmission grating by effective binary index modulation for the GAIA radial velocity spectrometer
Erdmann, M.; Kley, E.-B.; Zeitner, U.
Konferenzbeitrag
2010Half-tone proximity lithography
Harzendorf, T.; Stürzebecher, L.; Vogler, U.; Zeitner, U.; Völkel, R.
Konferenzbeitrag
2010Hemispherical thin-film transistor passive pixel sensors
Yoo, G.; Fung, T.C.; Radtke, D.; Stumpf, M.; Zeitner, U.; Kanicki, J.
Zeitschriftenaufsatz
2010High performance gratings for space applications
Zeitner, U.; Michaelis, D.; Kley, E.-B.; Erdmann, M.
Konferenzbeitrag
2010Highly efficient three-level blazed grating in the resonance domain
Oliva, M.; Michaelis, D.; Benkenstein, T.; Dunkel, J.; Harzendorf, T.; Matthes, A.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2010A maskless laser-write lithography processing of thin-film transistors on a hemispherical surface
Yoo, G.; Lee, H.; Radtke, D.; Stumpf, M.; Zeitner, U.; Kanicki, J.
Zeitschriftenaufsatz
2010Modeling and optimization of single-pass laser amplifiers for high-repetition-rate laser pulses
Ozawa, A.; Udem, T.; Zeitner, U.D.; Hänsch, T.W.; Hommelhoff, P.
Zeitschriftenaufsatz
2010Next-generation test equipment for micro-production
Zeitner, U.; Dannberg, P. et al.
Konferenzbeitrag
2010Photonic submicron-structures. Effective media for high-performance applications
Zeitner, U.D.; Kley, E.-B.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2010Smart technology for blazed multilevel gratings in resonance domain
Oliva, M.; Benkenstein, T.; Dunkel, J.; Harzendorf, T.; Matthes, A.; Michaelis, D.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2010SMARTIEHS - A European project for parallel testing of M(O)EMS
Michael, S.; Gastinger, K.; Kujawinska, M.; Zeitner, U.; Albero, J.; Beer, S.; Moosburger, R.; Pizzi, M.
Konferenzbeitrag
2009AFM characterization of large area micro-optical elements
Oliva, M.; Benkenstein, T.; Flemming, M.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2009Control of slow axis mode behavior with waveguide phase structures in semiconductor broad-area lasers
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.D.; Schmid, W.; Strauss, U.
Konferenzbeitrag
2009Design of a micro-optical low coherent interferometer array for the characterisation of MEMS and MOEMS
Gastinger, K.; Haugholt, K.H.; Røyset, A.; Albero, J.; Zeitner, U.; Gorecki, C.
Konferenzbeitrag
2009Experimental realization of a diffractive unstable resonator with Gaussian amplitude of the outcoupled beam using a VECSEL amplifier
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.-D.
Zeitschriftenaufsatz
2009Large-scale application of binary subwavelength structures
Kley, E.-B.; Freese, W.; Kämpfe, T.; Tünnermann, A.; Zeitner, U.D.; Michaelis, D.; Erdmann, M.
Konferenzbeitrag
2009Measuring the spatiotemporal electric field of tightly focused ultrashort pulses with submicron spatial resolution
Bowlan, P.; Fuchs, U.; Trebino, R.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2009Pixeliertes, diffraktives optisches Element mit zwei Hoehenstufen zur Erzeugung einer Phasenverteilung mit beliebigem Phasenhub
Zeitner, U.; Michaelis, D.; Kley, E.; Kaempfe, T.; Freese, W.
Patent
2008Diffractive unstable VECSEL-resonator with a Gaussian shaped outcoupled beam
Eckstein, C.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2008Diffraktives Element mit hoher Wellenfrontebenheit
Kley, E.; Zeitner, U.D.
Patent
2008Experimental realization of a diffractive unstable resonator with Gaussian outcoupled beam using a VECSEL amplifier
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2008Kantenemittierender Halbleiterlaser
Eckstein, H.-C.; Zeitner, U.; Schmid, W.
Patent
2008Kantenemittierender Halbleiterlaser mit Phasenstruktur
Schmid, W.; Eckstein, H.; Zeitner, U.
Patent
2008The making of a computer-generated hologram
Zeitner, U.D.; Banasch, M.; Kley, E.B.
Zeitschriftenaufsatz
2008Measuring the spatio-temporal electric field of tightly focused ultrashort pulses
Bowlan, P.; Fuchs, U.; Trebino, R.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2008Measuring the spatiotemporal electric field of tightly focused ultrashort pulses with sub-micron spatial resolution
Bowlan, P.; Fuchs, U.; Gabolde, P.; Trebino, R.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2008Mikrostrukturierte Optik für die raum-zeitliche Kontrolle von Licht
Zeitner, U.D.
Habilitationsschrift
2008Performance and lifetime of EUV source collectors measured with a full size EUV collector reflectometer
Hinze, U.; Chichkov, B.N.; Feigl, T.; Zeitner, U.D.; Damm, C.; Bolshukhin, D.; Kleinschmidt, J.; Schriever, G.; Schürmann, M.C.
Konferenzbeitrag
2008Smatiehs - Smart inspection system for high speed and multifunctional testing of Mems an Moems
Gastinger, K.; Kujawinska, M.; Lovhaugen, O.; Beer, S.; Gorecki, C.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2008Stochastic tandem microlens arrays for beam homogenization
Wippermann, F.C.; Radtke, D.; Dannberg, P.; Zeitner, U.D.; Bräuer, A.
Konferenzbeitrag
2008Transverse mode selection with waveguide phase structures in semiconductor broad-area lasers
Zeitner, U.D.; Eckstein, C.; Schmid, W.
Konferenzbeitrag
2007Beam homogenizers based on chirped microlens arrays
Wippermann, F.; Zeitner, U.-D.; Dannberg, P.; Bräuer, A.; Sinzinger, S.
Zeitschriftenaufsatz
2007Experimental realization of monolithic diffractive broad-area polymeric waveguide dye lasers
Zeitner, U.D.; Büttner, A.
Zeitschriftenaufsatz
2007Fly's eye condenser based on chirped microlens arrays
Wippermann, F.; Zeitner, U.D.; Dannberg, P.; Sinzinger, S.
Konferenzbeitrag
2007Inscription of fiber Bragg gratings with femtosecond pulses using a phase mask scanning technique
Thomas, J.; Wikszak, E.; Clausnitzer, T.; Fuchs, U.; Zeitner, U.D.; Nolte, S.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2007Laser lithographic fabrication and characterization of a spherical artificial compound eye
Radtke, D.; Duparre, J.; Zeitner, U.D.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2007Laser-lithography on non-planar surfaces
Radtke, D.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2006Advanced lithography for micro-optics
Zeitner, U.D.; Kley, E.-B.
Konferenzbeitrag
2006Fabrication technologies for chirped refractive microlens arrays
Wippermann, F.; Radtke, D.; Zeitner, U.D.; Duparre, J.; Tünnermann, A.; Amberg, M.; Sinzinger, S.; Reinhardt, C.; Ovsianikov, A.; Chichkov, B.N.
Konferenzbeitrag
2006Hybrid optics for focusing ultrashort laser pulses
Fuchs, U.; Zeitner, U.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2006Laserresonator mit oberflaechenstrukturierten Endspiegeln und Verfahren zu ihrer Herstellung
Buettner, A.; Zeitner, U.D.
Patent
2006Schwarzschild-objective-based EUV micro exposure tool
Zeitner, U.; Feigl, T.; Benkenstein, T.; Damm, C.; Peschel, T.; Kaiser, N.; Tünnermann, A.
Konferenzbeitrag
2006Ultraschallsonde und Verfahren zur optischen Detektion von Ultraschallwellen
Zeitner, U.D.; Schets, S.I.; Sobrino, E.V.
Patent
2006Verfahren und Anordnung zum Strukturieren einer lichtleitenden Faser entlang deren Laengsachse (longitudinale Strukturierung) basierend auf der nicht-linearen Absorption von Laserstrahlung
Fuchs, U.; Zeitner, U.; Tuennermann, A.; Thomas, J.; Wikszak, E.; Nolte, S.
Patent
2005Beleuchtungsmodul zur Farbbildanzeige
Leitel, A.; Waldhaeusl, R.; Schreiber, P.; Zeitner, U.D.
Patent
2005Design considerations for high-brightness diffractive broad area lasers
Büttner, A.; Zeitner, U.D.; Kowarschik, R.
Zeitschriftenaufsatz
2005Folded diffractive laser resonators with user-defined fundamental mode
Büttner, A.; Zeitner, U.; Kowarschick, R.
Zeitschriftenaufsatz
2005Halterung fuer optische Elemente
Damm, C.; Peschel, T.; Zeitner, U.D.; Feigl, T.; Banse, H.
Patent
2005High-brightness fiber-coupling schemes for diode laser bars
Schreiber, P.; Höfer, B.; Dannberg, P.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2005Homogeneous LED-illumination using microlens arrays
Schreiber, P.; Kudaev, S.; Dannberg, P.; Zeitner, U.
Konferenzbeitrag
2005Laserlithografie für Mikrooptik auf gekrümmten Oberflächen
Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2005On-axis diffractive elements with improved signal quality in the presence of fabrication errors and wavelength tolerances
Zeitner, U.D.; Dannberg, P.
Zeitschriftenaufsatz
2005Optical microstructures on non-planar surfaces
Zeitner, U.D.; Gräßler, C.
Konferenzbeitrag
2005Optics for focusing of ultra-short laser pulses
Fuchs, U.; Zeitner, U.; Tünnermann, A.
Konferenzbeitrag
2005Ultra-short pulse propagation in complex optical systems
Fuchs, U.; Zeitner, U.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2005Vorrichtung zur homogenen mehrfarbigen Beleuchtung einer Flaeche
Troellsch, A.; Zeitner, U.D.; Schreiber, P.; Waldhaeusl, R.
Patent
2004Basics for fast and false-color-free birefringence measurements
Kaufmann, S.; Zeitner, U.D.; Schache, H.; Kley, E.-B.
Konferenzbeitrag
2004Design and experimental realisation of monolithic high-brightness diffractive broad area lasers
Büttner, A.; Kowarschik, R.; Schelle, D.; Kley, E.-B.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2004Fiber-coupling of high-brightness laser diode bars
Schreiber, P.; Höfer, B.; Dannberg, P.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2004Laser-lithography for micro-optics on curved surfaces
Zeitner, U.D.; Gräßler, C.
Konferenzbeitrag
2004LED-based projection displays with micro-structured optical elements
Leitel, A.; Tröllsch, A.; Waldhäusl, R.; Schreiber, P.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2004Das Mehrfarben-Senarmont-Verfahren in der Polarisationsmikroskopie
Zeitner, U.D.; Kaufmann, S.
Zeitschriftenaufsatz
2004Modeling of free-space microoptics
Zeitner, U.D.; Schreiber, P.; Karthe, W.
Konferenzbeitrag
2004Recent advances in micro-optical systems
Bräuer, A.; Dannberg, P.; Schreiber, P.; Zeitner, U.D.; Kudaev, S.; Duparré, J.
Konferenzbeitrag
2004Schnelle Messungen mit dem Mehrfarben-Senarmont-Verfahren in der Polarisationsmikroskopie
Zeitner, U.D.; Kaufmann, S.
Zeitschriftenaufsatz
2004Verfahren und Vorrichtung zur schnellen Messung hoher Gangunterschiede von durchsichtigen und optisch doppelbrechenden Medien ohne und mit Falschfarben in Kleinstraeumen nach Senarmont
Kaufmann, S.; Schache, H.; Zeitner, U.; Beyer, H.
Patent
2003Application oriented complex polymer microoptics
Bräuer, A.; Dannberg, P.; Zeitner, U.; Mann, G.; Karthe, W.
Zeitschriftenaufsatz
2003Intracavity beamshaping in waveguide lasers
Büttner, A.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2003Laser-mode engineering by generalized resonator concepts
Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2003Micro-optical sensor system for birefringence characterization of textile-fibers
Zeitner, U.; Kaufmann, S.; Kley, E.-B.
Konferenzbeitrag
2003Mikrooptisches Sensorsystem zur Bestimmung der Doppelbrechung von Textilfasern
Zeitner, U.D.; Kaufmann, S.; Kley, E.-B.
Zeitschriftenaufsatz
2003Polarizing metal stripe gratings for a micro-optical polarimeter
Clausnitzer, I.; Fuchs, H.-J.; Kley, E.-B.; Tünnermann, A.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2003Short-periodic measuring of great retardations with a modified Senarmont-method
Kaufmann, S.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2003Verfahren und Vorrichtung zum Messen von Translationsbewegungen zwischen einer Oberflaeche und einer Messvorrichtung
Steegmueller, U.; Brunner, H.; Schreiber, P.; Zeitner, U.D.; Dannberg, P.; Braeuer, A.
Patent
2002Calculation of the average lenslet shape and aberrations of microlens arrays from their far-field intensity distribution
Büttner, A.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2002Design and analysis of a micro-optical speckle displacement sensor
Schreiber, P.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2002Photonen in Bestform - Strahlformung mit refraktiven mikrooptischen Elementen
Bräuer, A.; Zeitner, U.D.; Schreiber, P.; Dannberg, P.; Büttner, A.
Zeitschriftenaufsatz
2002Unambigous measuring of great retardations with a modified Senarmont method
Kaufmann, S.; Zeitner, U.
Zeitschriftenaufsatz
2002Wave optical analysis of light-emitting diode beam shaping using microlens arrays
Büttner, A.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2001Design of hard-edged unstable laser resonators with user defined mode shape
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F.
Konferenzbeitrag
2001Design of unstable laser resonators with userdefined mode shape
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F.
Zeitschriftenaufsatz
2001Double-sided hybrid microoptical elements combining functions of multistage optical systems
Zeitner, U.D.; Dannberg, P.
Konferenzbeitrag
2001Mikrooptische Elemente, Funktionen und lithographische Herstellungstechnologien
Kley, E.-B.; Tünnermann, A.; Zeitner, U.D.; Karthe, W.
Zeitschriftenaufsatz
2000Consideration on the use of design freedoms for resonator originated beam shaping
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F.
Konferenzbeitrag
2000External design freedom for optimalization of resonator originated beam shaping
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F.; Zellmer, H.
Zeitschriftenaufsatz
1999Comparison of resonator-originated and external beam shaping
Zeitner, U.D.; Aagedal, H.; Wyrowski, F.
Zeitschriftenaufsatz
1999Fabrication and properties of refractive micro-optical beam-shaping elements
Kley, E.-B.; Wittig, L.-C.; Cumme, M.; Zeitner, U.D.; Dannberg, P.
Konferenzbeitrag
1999High modal discrimination for laser resonators with Gaussian output beam
Zeitner, U.D.; Wyrowski, F.
Zeitschriftenaufsatz
1999Polarization multiplexing of diffractive elements with metal-stripe grating pixels
Zeitner, U.D.; Schnabel, B.; Kley, E.-B.; Wyrowski, F.
Zeitschriftenaufsatz