Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2019Influence of cutting edge radius on process forces in orthogonal machining of carbon fibre reinforced plastics (CFRP)
Sauer, Konstantin; Witt, Marco; Putz, Matthias
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2019Ultraschneller 3D-Druck
Blase, Johannes; John, Christopher; Kausch, Martin; Witt, Marcus
Zeitschriftenaufsatz
2015Brauchen wir noch klinische Studien in der Rheumatologie?
Henkemeier, U.; Alten, R.; Bannert, B.; Baraliakos, X.; Behrens, F.; Heldmann, F.; Kiltz, U.; Köhm, M.; König, R.; Leipe, J.; Müller-Ladner, U.; Rech, J.; Riechers, E.; Rubbert-Roth, A.; Schmidt, R.E.; Schulze-Koops, H.; Specker, C.; Tausche, A.-K.; Wassenberg, S.; Witt, M.; Witte, T.; Zernicke, J.; Burkhardt, H.
Zeitschriftenaufsatz
2014CAD kernel based simulation of milling processes
Klimant, Philipp; Witt, Marco; Kuhl, Michael
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2014Echtzeitfähige energie- und kostensensitive Maschinensimulation
Witt, Marco; Klimant, Philipp; Paetzold, Jörg; Bierer, Anett; Dudarev, Ivan; Wittstock, Volker; Götze, Uwe; Drossel, Welf-Guntram
Konferenzbeitrag
2012Packaging technology of multi deflection arrays for multi-shaped beam lithography
Burkhardt, T.; Mohaupt, M.; Hornaff, M.; Zaage, B.; Beckert, E.; Döring, H.-J.; Slodowski, M.; Reimer, K.; Witt, M.; Eberhardt, R.; Tünnermann, A.
Konferenzbeitrag
2012Realistic machine simulation with virtual reality
Neugebauer, Reimund; Klimant, Philipp; Witt, Marco
Konferenzbeitrag
2012Realistic machine simulation with virtual reality
Neugebauer, Reimund; Klimant, Philipp; Witt, Marco
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2011Characterization of CMOS programmable multi-beam blanking arrays as used for programmable multi-beam projection lithography and resistless nanopatterning
Eder Kapl, S.; Loeschner, H.; Piller, W.; Witt, M.; Pilz, W.; Letzkus, F.; Jurisch, M.; Irmscher, M.; Platzgummer, E.
Zeitschriftenaufsatz
2009Charged particle multi-beam lithography evaluations for sub-16nm hp mask node fabrication and wafer direct write
Platzgummer, E.; Klein, C.; Joechl, P.; Loeschner, H.; Witt, M.; Pilz, W.; Butschke, J.; Jurisch, M.; Letzkus, F.; Sailer, H.; Irmscher, M.
Konferenzbeitrag
2009PML2: The maskless multibeam solution for the 22nm node and beyond
Klein, C.; Platzgummer, E.; Klikovits, J.; Piller, W.; Loeschner, H.; Bejdak, T.; Dolezel, P.; Kolarik, V.; Klingler, W.; Letzkus, F.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Witt, M.; Pilz, W.; Jaschinsky, P.; Thrum, F.; Hohle, C.; Kretz, J.; Nogatch, J.T.; Zepka, A.
Konferenzbeitrag
2008Projection maskless lithography (PML2)
Klein, C.; Platzgummer, E.; Loeschner, H.; Gross, G.; Dolezel, P.; Tmej, M.; Kolarik, V.; Klingler, W.; Letzkus, F.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Witt, M.; Pilz, W.
Konferenzbeitrag
2006Mikroaktorbauteil und Verfahren zur Herstellung
Hofmann, U.; Witt, M.; Wagner, B.; Muehlmann, S.
Patent
2006Projection mask-less lithography (PML2): First results from the multi beam blanking demonstrator
Eder-Kapl, S.; Haugeneder, E.; Langfischer, H.; Reimer, K.; Eichholz, J.; Witt, M.; Doering, H.-J.; Heinitz, J.; Brandstätter, C.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2005Development of microsystem technologies for a monolithically integrated programmable aperture plates system used in maskless 45nm e-beam lithography tools
Witt, M.; Eichholz, J.; Ratzmann, L.; Kähler, D.; Brünger, W.; Reimer, K.; Döring, H.-J.; Haugeneder, E.
Konferenzbeitrag
2005Mask manufacture for projection mask-less lithography (PML2)
Reimer, K.; Witt, M.; Kähler, D.; Eichholz, J.; Ratzmann, L.; Brünger, W.; Döring, H.-J.; Haugeneder, E.; Eder-Kapl, S.; Nowak, R.
Konferenzbeitrag
199916-k infrared micromirror arrays with large-beam deflection and 10-mm pixel size
Reimer, K.; Engelke, R.; Witt, M.; Wagner, A.
Konferenzbeitrag
1999Electrostatically driven micromirrors for a miniaturized confocal laser scanning microscope
Hofmann, U.; Mühlmann, S.; Schütz, R.; Dörschel, K.; Wagner, B.; Witt, M.
Konferenzbeitrag