Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
1994Nuclear microprobe application to semiconductor process development - silicide formation and multi-layered structure
Takai, M.; Katayama, Y.; Lohner, T.; Kinomura, A.; Ryssel, H.; Tsien, P.H.; Satou, M.; Chayahara, A.; Burte, E.P.
Zeitschriftenaufsatz
1983CO2-laser annealing of ion implanted silicon - relaxation characteristics of metastable concentrations
Goetzlich, J.; Tsien, P.H.; Henghuber, G.; Ryssel, H.
Aufsatz in Buch
1981Annealing of boron-implanted silicon using a CW CO2-laser.
Tsien, P.H.; Tsou, S.C.; Takai, M.; Roeschenthaler, D.; Ramin, M.; Ryssel, H.; Ruge, I.; Wittmaack, K.
Zeitschriftenaufsatz
1981CO2 laser annealing characteristics of high-dose boron and arsenic-implanted silicon.
Tsien, P.H.; Goetzlich, J.; Ryssel, H.; Ruge, I.
Zeitschriftenaufsatz
1981Nd-YAG laser annealing of arsenic-implanted silicon - dependence upon scanning speed and power density.
Tsien, P.H.; Ryssel, H.; Roeschenthaler, D.; Ruge, I.
Zeitschriftenaufsatz
1981Nd-YAG laser annealing of arsenic-implanted silicon - Relaxation of metastable concentration by means of CO2-laser irradiation.
Tsien, P.H.; Ryssel, H.; Roeschenthaler, D.; Ruge, I.
Zeitschriftenaufsatz
1981Nd-YAG laser annealing of gallium-implanted silicon.
Takai, M.; Tsou, S.C.; Tsien, P.H.; Roeschenthaler, D.; Ryssel, H.
Zeitschriftenaufsatz