Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2014Large boron-interstitial cluster modelling in BF3 plasma implanted silicon
Essa, Z.; Cristiano, F.; Spiegel, Y.; Qiu, Y.; Boulenc, P.; Quillec, M.; Taleb, N.; Zographos, N.; Bedel-Pereira, E.; Mortet, V.; Burenkov, A.; Hackenberg, M.; Torregrosa, F.; Tavernier, C.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2014Simulation of the boron build-up formation during melting laser thermal annealing
Hackenberg, M.; Huet, K.; Negru, R.; Fisicaro, G.; La Magna, A.; Taleb, N.; Quillec, M.; Pichler, P.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2013Anomalous impurity segregation and local bonding fluctuation in l-Si
Fisicaro, G.; Huet, K.; Negru, R.; Hackenberg, M.; Pichler, P.; Taleb, N.; La Magna, A.
Zeitschriftenaufsatz
2013Dopant dynamics and defects evolution in implanted silicon under laser irradiations: A coupled continuum and kinetic Monte Carlo approach
Fisicaro, G.; Pelaz, L.; Aboy, M.; Lopez, P.; Italia, M.; Huet, K.; Cristiano, F.; Essa, Z.; Yang, Q.; Bedel-Pereira, E.; Hackenberg, M.; Pichler, P.; Quillec, M.; Taleb, N.; La Magna, A.
Konferenzbeitrag
2013Melt depth and time variations during pulsed laser thermal annealing with one and more pulses
Hackenberg, Moritz; Rommel, Mathias; Rumler, M; Lorenz, Jürgen; Pichler, Peter; Huet, Karim; Negru, Razvan; Fisicaro, Giuseppe; Magna, Antonino la; Taleb, Nadjib; Quillec, M.
Konferenzbeitrag
2012BF3 PIII modeling: Implantation, amorphisation and diffusion
Essa, Z.; Cristiano, F.; Spiegel, Y.; Boulenc, P.; Qiu, Y.; Quillec, M.; Taleb, N.; Burenkov, A.; Hackenberg, M.; Bedel-Pereira, E.; Mortet, V.; Torregrosa, F.; Tavernier, C.
Konferenzbeitrag