Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2016Enhanced light coupling of white organic LED using sub-anode high index grids
Michaelis, D.; Wächter, C.A.; Wehlus, T.; Rausch, A.; Fuchs, F.; Stürzebecher, L.; Harzendorf, T.; Danz, N.; Bräuer, A.
Konferenzbeitrag
2015High-resolution proximity lithography for nano-optical components
Stürzebecher, Lorenz; Fuchs, Frank; Zeitner, Uwe Detlef; Tünnermann, Andreas
Zeitschriftenaufsatz
2015Mask Aligner Lithography for TSV-Structures using a Double-Sided (structured) Photomask
Weichelt, Tina; Stuerzebecher, Lorenz; Zeitner, Uwe Detlef
Konferenzbeitrag
2015Optimized lithography process for through-silicon vias-fabrication using a double-sided (structured) photomask for mask aligner lithography
Weichelt, Tina; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, Uwe D.
Zeitschriftenaufsatz
2014Application of rigorously optimized phase masks for the fabrication of binary and blazed gratings with diffractive proximity lithography
Stuerzebecher, L.; Fuchs, F.; Harzendorf, T.; Meyer, S.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2014Pulse compression grating fabrication by diffractive proximity photolithography
Stürzebecher, Lorenz; Fuchs, Frank; Harzendorf, Torsten; Zeitner, Uwe Detlef
Zeitschriftenaufsatz
2014Resolution enhancement for advanced mask aligner lithography using phase-shifting photomasks
Weichelt, T.; Vogler, U.; Stuerzebecher, L.; Voelkel, R.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2012Advanced mask aligner lithography (AMALITH)
Völkel, R.; Vogler, U.; Bramati, A.; Weichelt, T.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.D.; Motzek, K.; Erdmann, A.; Hornung, M.; Zoberbier, R.
Konferenzbeitrag
2012AMALITH: Advanced mask aligner lithography
Bramati, Arianna; Weichelt, Tina; Stürzebecher, Lorenz; Meliorisz, Balint; Vogler, Uwe; Voelkel, Reinhard
Konferenzbeitrag
2012Novel gap alignment sensor for high-resolution proximity lithography
Harzendorf, Torsten; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, Uwe Detlef
Konferenzbeitrag
2012Sub-micrometer pattern generation by diffractive mask-aligner lithography
Zeitner, Uwe D.; Stuerzebecher, Lorenz; Harzendorf, Torsten; Fuchs, Frank; Michaelis, Dirk
Konferenzbeitrag
2012Verfahren und Sensoreinheit zur Abstandsmessung in einer lithografischen Vorrichtung und lithographische Vorrichtung
Harzendorf, Torsten; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, U.; Vogler, U.; Völkel, R.
Patent
2012Verfahren und Vorrichtung zur Abstandsmessung mit einer diffraktiven Struktur
Harzendorf, Torsten; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, U.; Vogler, U.; Völkel, R.
Patent
2012Wafer scale fabrication of submicron chessboard gratings using phase masks in proximity lithography
Stürzebecher, Lorenz; Harzendorf, T.; Fuchs, F.; Zeitner, U.D.
Konferenzbeitrag
2011Mask aligner process enhancement by spatial filtering
Vogler, U.; Bich, A.; Voelkel, R.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.D.; Hornung, M.
Konferenzbeitrag
2011Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization)
Vogler, U.; Bramati, A.; Völkel, R.; Hornung, M.; Zoberbier, R.; Motzek, M.; Erdmann, A.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2010Advanced mask aligner lithography: Fabrication of periodic patterns using pinhole array mask and Talbot effect
Stürzebecher, L.; Harzendorf, T.; Vogler, U.; Zeitner, U.D.; Völkel, R.
Zeitschriftenaufsatz
2010Advanced mask aligner lithography: New illumination system
Voelkel, R.; Vogler, U.; Bich, A.; Pernet, P.; Weible, K.J.; Hornung, M.; Zoberbier, R.; Cullmann, E.; Stuerzebecher, L.; Harzendorf, T.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2010Half-tone proximity lithography
Harzendorf, T.; Stürzebecher, L.; Vogler, U.; Zeitner, U.; Völkel, R.
Konferenzbeitrag